[发明专利]一种用于二维材料定点转移和对准光刻的一体化系统在审
| 申请号： | 201811230466.5 | 申请日： | 2018-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN109521649A | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 陆亚林;王建林;杨萌萌;傅正平;邹维;崔佳萌;赵志博;黄浩亮;黄秋萍 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B81C3/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李海建 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于二维材料定点转移和对准光刻的一体化系统，包括视觉观察系统、支撑轴、光源模块、光刻模块、基片位移模块、减震底座和控制模块；通过控制模块分别控制基片位移模块和光刻模块在X轴和Y轴方向移动，同时结合显微镜模块进行观察，使承载待转移二维材料的基片和目标基底对准后，然后控制基片位移模块和/或光刻模块在Z轴方向的高度，该种系统即可应用于二维材料的定点转移也可以应用于对准光刻过程。该一体化系统完美集成了光刻和二维材料转移的功能，可以实现二维材料的定点转移和对准光刻在原位完成，避免了二维材料的定点转移和对准光刻过程存在的成本高和效率低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 二维材料 光刻 对准 一体化系统 基片位移 光刻过程 控制模块 显微镜模块 光源模块 减震底座 视觉观察 目标基 支撑轴 应用 承载 观察 | ||
【主权项】：
1.一种用于二维材料定点转移和对准光刻的一体化系统，其特征在于，包括视觉观察系统(1)、支撑轴(2)、光源模块(3)、光刻模块(4)、基片位移模块(5)、减震底座(6)和控制模块(7)；所述视觉观察系统(1)包括连接支架(11)和固定于所述连接支架(11)的显微镜模块(12)，所述连接支架(11)安装在所述支撑轴(2)上并能绕所述支撑轴(2)旋转以及沿所述支撑轴(2)的轴向方向滑动；所述光源模块(3)包括光源支架(31)和固定于所述光源支架(31)上的光刻光源(32)，所述光源支架(31)安装在所述支撑轴(2)上并能绕所述支撑轴(2)旋转以及沿所述支撑轴(2)的轴向方向滑动；所述光刻模块(4)包括光刻板固定架(42)和与所述光刻板固定架(42)相连的光刻板位移驱动模块(43)，所述光刻板位移驱动模块(43)安装在所述减震底座(6)上并能沿X轴、Y轴、Z轴方向移动；所述基片位移模块(5)安装在减震底座(6)上并能沿X轴、Y轴、Z轴三个方向移动；所述控制模块(7)用于对光源模块(3)、光刻模块(4)以及基片位移驱动模块(5)的运动进行控制；其中，X轴和Y轴为在平行于所述减震底座(6)所在平面内构建的直角坐标系，Z轴为垂直于所述减震底座(6)所在平面的方向。
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