[发明专利]利用稀硫酸刻蚀提高二氧化钒薄膜可见光透过率的方法在审
| 申请号： | 201811210682.3 | 申请日： | 2018-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN109402581A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 梁继然;郭津榜;赵一瑞 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/18;C23C14/02;C23C14/58 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 琪琛 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用稀硫酸刻蚀提高二氧化钒薄膜可见光透过率的方法，采用稀硫酸处理的方式对磁控溅射结合快速退火制备的二氧化钒薄膜进行刻蚀，在整个制备过程中利用酸处理的方式将连续的平面二氧化钒薄膜刻蚀成分离的颗粒，提高薄膜孔隙率。本发明方法所需工艺条件低，易于控制，能够有效提高VO2的可见光透过率。先溅射金属钒薄膜，再进行热退火氧化，最后利用稀硫酸进行浸泡刻蚀，制造成本低廉，适合大批量工业生产。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 二氧化钒薄膜 稀硫酸 可见光透过率 金属钒薄膜 薄膜孔隙 磁控溅射 工艺条件 快速退火 制备过程 制造成本 热退火 酸处理 溅射 制备 浸泡 | ||
【主权项】：
1.一种利用稀硫酸刻蚀提高二氧化钒薄膜可见光透过率的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)蓝宝石基底的清洗：将蓝宝石片依次放入去离子水、丙酮以及无水乙醇中进行超声清洗，再用去离子水洗净，最后将蓝宝石基片放入无水乙醇中备用；(2)金属钒薄膜的制备：将洗净的蓝宝石基底置于DPS‑Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜机的真空室，采用质量纯度为99.99％的金属钒作为靶材，以质量纯度为99.999％的氩气作为工作气体制备金属钒薄膜；(3)二氧化钒薄膜的制备：将步骤(2)制得的金属钒薄膜放置于快速退火炉中进行快速氧化热退火；(4)二氧化钒薄膜的刻蚀；将步骤(3)中制得的二氧化钒薄膜放置于质量分数为0.1％的稀硫酸中浸泡刻蚀5到25分钟。
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