[发明专利]利用稀硫酸刻蚀提高二氧化钒薄膜可见光透过率的方法

权利要求书

1.一种利用稀硫酸刻蚀提高二氧化钒薄膜可见光透过率的方法，其特征在于，

包括以下步骤：

(1)蓝宝石基底的清洗：

将蓝宝石片依次放入去离子水、丙酮以及无水乙醇中进行超声清洗，再用去离子水洗净，最后将蓝宝石基片放入无水乙醇中备用；

(2)金属钒薄膜的制备：

将洗净的蓝宝石基底置于DPS-Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜机的真空室，采用质量纯度为99.99％的金属钒作为靶材，以质量纯度为99.999％的氩气作为工作气体制备金属钒薄膜；

(3)二氧化钒薄膜的制备：

将步骤(2)制得的金属钒薄膜放置于快速退火炉中进行快速氧化热退火；

(4)二氧化钒薄膜的刻蚀；

将步骤(3)中制得的二氧化钒薄膜放置于质量分数为0.1％的稀硫酸中浸泡刻蚀5到25分钟。

2.根据权利要求1所述利用稀硫酸刻蚀提高二氧化钒薄膜可见光透过率的方法，其特征在于，所述步骤(2)溅射条件为：本底真空度8.0×10^-4Pa，氩气气体流量为48mL/min，溅射工作气压为2Pa，溅射功率为120W，溅射时间8min。

3.根据权利要求1所述利用稀硫酸刻蚀提高二氧化钒薄膜可见光透过率的方法，其特征在于，所述步骤(3)快速退火炉炉内温度的改变规律分为为升温、保温、降温三个阶段，热氧化时通入的气体为高纯氧气，升温和保温时气体流量固定为7slpm，其余阶段气体流量固定为1slpm，保温温度为480℃，升温速率通过设定保温温度和升温时间来确定，其值固定为50℃/s，升温时间9s，保温时间为70s，降温时间90s。