[发明专利]显示面板、发光材料蒸镀方法以及装置在审
| 申请号： | 201811207832.5 | 申请日： | 2018-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN109411603A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 程薇 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/00 | 分类号： | H01L51/00;H01L51/56;C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种显示面板、发光材料蒸镀方法以及装置，该方法包括对齐掩膜板与阵列基板，生成覆盖阵列基板的电场，对发光材料进行处理，生成发光材料带电粒子；发光材料带电粒子穿过掩膜板后，在电场的作用下沉积在阵列基板的像素区域；这样通过提供覆盖阵列基板的电场，并生成发光材料带电粒子，这些发光材料带电粒子在穿过掩膜板后，在电场的作用下将改变运动方向，沿着电场方向垂直的向阵列基板的像素区域移动，然后均匀的沉积在阵列基板的像素区域，而不会沿原始运动方向沉积在像素临界位置，也不会沉积在其他位置，保证了发光材料的成膜均一性，解决了现有显示面板存在的子像素临界位置的发光材料成膜均一性不佳的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 发光材料 阵列基板 电场 带电粒子 沉积 显示面板 像素区域 掩膜板 临界位置 均一性 成膜 蒸镀 电场方向垂直 穿过 原始运动 对齐 子像素 覆盖 像素 移动 保证 | ||
【主权项】：
1.一种发光材料蒸镀方法，其特征在于，包括:对齐掩膜板与阵列基板；生成覆盖所述阵列基板的电场；对发光材料进行处理，生成发光材料带电粒子；所述发光材料带电粒子穿过所述掩膜板后，在所述电场的作用下沉积在所述阵列基板的像素区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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