[发明专利]一种二维可独立连续调节的全光光路控制方法及其装置有效
| 申请号： | 201811206555.6 | 申请日： | 2018-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN109212862B | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 陆大全;陈娟;蔡桂琴;胡巍 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 510006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学技术领域，具体涉及一种二维可独立连续调节的全光光路控制方法及其装置。本发明的物理根据是复合光束中二维独立连续可调的横向动量。同偏振、同频率、同传输方向的一束基模高斯光束和一束(0，1)模拉盖尔高斯光束同心相干叠加于非线性介质入射面形成复合光束。在非线性介质中传输时，复合光束重心偏离初始位置的大小和方向可分别通过两个组合光的比例系数b和相位差δ进行独立连续调节，从而实现可二维独立连续调节的全光光路控制。本发明可方便地在大小和方向两个维度上对光路偏离进行独立的连续调节。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二维 独立 连续 调节 光光 控制 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.一种二维可独立连续调节的全光光路控制方法，其特征在于，包括以下步骤：S1.产生同偏振、同频率、同传输方向的一束基模高斯光束和一束(0，1)模拉盖尔高斯光束；S2.使产生的基模高斯光束和(0，1)模拉盖尔高斯光束同心相干叠加于非线性介质入射面；S3.通过调节两光束的比例系数b和相位差δ来分别调节非线性介质中复合场的重心偏离初始位置的大小和方向，从而实现二维可独立连续调节的全光光路控制。
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