[发明专利]光学邻近矫正方法

摘要

本发明提供了一种优化集成电路电源线周围热点图形工艺窗口的光学邻近矫正方法，包括获取该光学邻近矫正目标层的亚分辨率辅助图形规则；计算第一目标宽度W1和第二目标宽度W2，选择需要添加亚分辨率辅助图形的目标电源线，根据第一预设规则对所述目标电源线进行扩展，对符合第二预设规则的目标电源线添加亚分辨率辅助图形，对第五步形成的目标电源线生成光学邻近矫正目标层，根据第三预设规则对添加的亚分辨率辅助图形进行修正，基于光学邻近矫正目标层和修正后的亚分辨率辅助图形，添加光学邻近矫正亚分辨率辅助图形，进行后续光学邻近矫正修正。

主权项

1.一种优化集成电路电源线周围热点图形工艺窗口的光学邻近矫正方法，其特征在于，包括以下步骤：第一步，获取该光学邻近矫正目标层的亚分辨率辅助图形规则；第二步，根据所述亚分辨率辅助图形规则计算第一目标宽度W1和第二目标宽度W2；所述第一目标宽度W1是能加入一根亚分辨率辅助图形目标电源线的最小宽度，所述第二目标宽度W2是能加入两根亚分辨率辅助图形目标电源线的最小宽度；第三步，选择需要添加亚分辨率辅助图形的目标电源线；第四步，根据第一预设规则对所述目标电源线进行扩展；第五步，根据所述亚分辨率辅助图形规则对符合第二预设规则的目标电源线添加亚分辨率辅助图形；第六步，对第五步形成的目标电源线生成光学邻近矫正目标层；第七步，根据第三预设规则对添加的亚分辨率辅助图形进行修正；第八步，基于第六步生成的光学邻近矫正目标层和第七步修正后的亚分辨率辅助图形，添加光学邻近矫正亚分辨率辅助图形，进行后续光学邻近矫正修正。