[发明专利]光学邻近矫正方法有效
| 申请号: | 201811154411.0 | 申请日: | 2018-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN109188870B | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
| 发明(设计)人: | 王丹;赵璇;于世瑞 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 焦天雷 |
| 地址: | 201315 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 邻近 矫正 方法 | ||
1.一种优化集成电路电源线周围热点图形工艺窗口的光学邻近矫正方法,其特征在于,包括以下步骤:
第一步,获取已知光学邻近矫正目标层的亚分辨率辅助图形规则,包括:亚分辨率辅助图形最小宽度sw,亚分辨率辅助图形到目标电源线的最小距离sm,亚分辨率辅助图形到亚分辨率辅助图形的最小距离ss,亚分辨率辅助图形最短长度sl;
第二步,根据所述亚分辨率辅助图形规则计算第一目标宽度W1和第二目标宽度W2;所述第一目标宽度W1是能加入一根亚分辨率辅助图形目标电源线的最小宽度,所述第二目标宽度W2是能加入两根亚分辨率辅助图形目标电源线的最小宽度;
第三步,选择需要添加亚分辨率辅助图形的目标电源线;
第四步,根据第一预设规则对所述目标电源线进行扩展;第一预设规则包括如果目标电源线的宽度属于第三宽度区间,则判断目标电源线空间;如果目标电源线两侧空间均大于两倍最小设计规则,则目标电源线两侧均增大第一距离,如果目标电源线仅一侧空间大于两倍最小设计规则,则目标电源线空间较大一侧增大第二距离;
第五步,根据所述亚分辨率辅助图形规则对符合第二预设规则的目标电源线添加亚分辨率辅助图形;第二预设规则是对增大后宽度属于第四宽度区间的目标电源线添加亚分辨率辅助图形;
第六步,对第五步形成的目标电源线生成光学邻近矫正目标层;
第七步,根据第三预设规则对添加的亚分辨率辅助图形进行修正;所述第三预设规则包括:若添加的亚分辨率辅助图形到目标电源线的距离小于亚分辨率辅助图形到目标电源线的最小距离sm,则清除违反亚分辨率辅助图形规则部分亚分辨率辅助图形;若清除后亚分辨率辅助图形长度小于亚分辨率辅助图形最短长度sl,则将该添加的亚分辨率辅助图形整根清除;
第八步,基于第六步生成的光学邻近矫正目标层和第七步修正后的亚分辨率辅助图形,添加光学邻近矫正亚分辨率辅助图形,进行后续光学邻近矫正修正。
2.如权利要求1所述的光学邻近矫正方法,其特征在于:所述第一目标宽度W1=sw+2×sm;所述第二目标宽度W2=2×sw+2×sm+ss。
3.如权利要求2所述的光学邻近矫正方法,其特征在于,实施第三步时,选择初始宽度属于第一宽度区间或第二宽度区间的电源线作为目标电源线。
4.如权利要求3所述的光学邻近矫正方法,其特征在于:所述第一宽度区间是[0.8*W1,1.2*W1],所述第二宽度区间是[0.8*W2,1.2*W2]。
5.如权利要求1所述的光学邻近矫正方法,其特征在于:所述第三宽度区间是[0.8×W1,W1),所述第一距离是0.1×W1,所述第二距离是0.2×W1。
6.如权利要求1所述的光学邻近矫正方法,其特征在于:所述第四宽度区间是[W1,1.2*W1]。
7.如权利要求6所述的光学邻近矫正方法,其特征在于:对宽度属于第四宽度区间添加一根亚分辨率辅助图形。
8.如权利要求4所述的光学邻近矫正方法,其特征在于,所述第一预设规则包括:
如果目标电源线宽度属于第五宽度区间,则判断目标电源线空间;如果目标电源线两侧空间均大于两倍最小设计规则,则目标电源线两侧均增大第三距离;如果目标电源线一侧空间大于两倍最小设计规则,则目标电源线空间较大一侧增大第四距离。
9.如权利要求8所述的光学邻近矫正方法,其特征在于:所述第五宽度区间是[0.8×W2,W2),所述第三距离是0.1×W2,所述第四距离是0.2×W2。
10.如权利要求9所述的光学邻近矫正方法,其特征在于:所述第二预设规则是对增大后宽度属于第六宽度区间的目标电源线添加亚分辨率辅助图形。
11.如权利要求10所述的光学邻近矫正方法,其特征在于:所述第六宽度区间是[W2,1.2*W2]。
12.如权利要求11所述的光学邻近矫正方法,其特征在于:对宽度属于第六宽度区间添加两根亚分辨率辅助图形。
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