[发明专利]一种AlGaN基p-i-n日盲紫外探测器及制备方法在审
申请号: | 201811143971.6 | 申请日: | 2018-09-29 |
公开(公告)号: | CN109273553A | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 陆海;周东;渠凯军 | 申请(专利权)人: | 镇江镓芯光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/105 | 分类号: | H01L31/105;H01L31/0216;H01L31/18 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 任立 |
地址: | 212400 江苏省镇江市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本专利公布了一种AlGaN基p‑i‑n日盲紫外探测器及制备方法,探测器结构包括图形化蓝宝石衬底,缓冲层,n型掺杂层,i型掺杂层,应力释放层,p型层,i型层,结构布置自下至上依次为图形化蓝宝石衬底、缓冲层、n型掺杂层、i型掺杂层、应力释放层、p型层、i型层;制备方法包括:对衬底进行清洗,在衬底表面进行淀积石墨处理,获取缓冲层和n型掺杂层,依次生长i型掺杂层,应力释放层,p型层,i型层。本发明可提供的背入射AlGaN基p‑i‑n日盲紫外探测器优势:(1)应力释放层能够减少结构的位错密度,降低器件出现龟裂的概率;(2)二氧化硅作为钝化层,具有优良的绝缘特性,可以作为有效的电极隔离层,从而提高光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 应力释放层 紫外探测器 掺杂层 缓冲层 衬底 日盲 制备 图形化蓝宝石 光电转换效率 电极隔离层 探测器结构 衬底表面 二氧化硅 降低器件 结构布置 绝缘特性 钝化层 龟裂 石墨 淀积 入射 位错 清洗 生长 概率 | ||
【主权项】:
1.一种AlGaN基p‑i‑n日盲紫外探测器,其特征在于:包括图形化蓝宝石衬底(1),缓冲层(2),n型掺杂层(3),i型掺杂层(4),应力释放层(5),p型层(6),i型层(7),所述图形化蓝宝石衬底(1)布置在器件的最下方,所述缓冲层(2)布置在图形化蓝宝石衬底(1)上方,所述n型掺杂层(3)布置在缓冲层(2)与i型掺杂层(4)之间,所述i型掺杂层(4)布置在n型掺杂层(3)与应力释放层(5)之间,所述应力释放层(5)布置在i型掺杂层(4)与p型层(6)之间,所述p型层(6)布置在应力释放层(5)与i型层(7)之间,所述i型层(7)布置在p型层(6)上方。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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