[发明专利]一种硬质硼化锆/氧化锆纳米多层膜及其制备方法与应用在审
申请号: | 201811137819.7 | 申请日: | 2018-09-28 |
公开(公告)号: | CN109371363A | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 董磊;毛栋;李德军 | 申请(专利权)人: | 天津师范大学 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/08;C23C14/35 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人: | 朱红星 |
地址: | 300387 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种ZrB2/ZrO2的纳米多层膜涂层。它是在硅(Si)基底上周期性分别沉积ZrB2层和ZrO2层制备ZrB2/ZrO2纳米多层膜;其中ZrB2和ZrO2的沉积周期为40nm,沉积的调制比依次为:tZrB2:tZrO2=1:1;2‑5:1,共沉积20个周期,薄膜总层厚为800‑900纳米。随后在大气条件下进行500℃保温1小时的高温氧化实验,探究ZrO2层对多层膜高温抗氧化性的影响。硬质ZrB2/ZrO2纳米多层膜具有较高硬度、高弹性模量和高温抗氧化的优良机械特性。ZrB2/ZrO2纳米多层膜在切削工具、微机械、微电子领域将有重要的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 纳米多层膜 沉积 多层膜 硬质 制备 高温抗氧化性 高弹性模量 高温抗氧化 微电子领域 氧化锆纳米 大气条件 高温氧化 切削工具 调制比 高硬度 共沉积 硼化锆 微机械 总层厚 基底 薄膜 保温 应用 | ||
【主权项】:
1.一种硬质ZrB2/ZrO2纳米多层膜,其特征在于它是在硅(Si)基底上周期性分别沉积ZrB2层和ZrO2层制备ZrB2/ZrO2纳米多层膜;其中ZrB2和ZrO2的沉积周期为40nm,沉积的调制比依次为:tZrB2:tZrO2=1:1;2‑5:1,共沉积20个周期,薄膜总层厚为800‑900纳米。
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