[发明专利]基于模板复制技术的表面增强拉曼检测基底的制备方法在审
| 申请号： | 201811091546.7 | 申请日： | 2018-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN109580577A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 郭秋泉;贾沛沛;赵呈春;杨军 | 申请（专利权）人： | 深圳拓扑精膜科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518101 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于模板复制技术的表面增强拉曼检测基底的制备方法，包括以下步骤：S1、纳米孔阵列金膜的成型：在具有纳米孔阵列的硅片模板上沉积铜和金，纳米孔阵列在金膜沉积过程中自然形成；S2、金膜与硅片模板的分离：使用铜刻蚀液腐蚀硅片模板上的铜，使金膜从模板上分离，并漂浮于刻蚀液上；S3、金膜转移到支撑基底：金膜漂洗后，将漂浮的金膜转移到平面基底或者金属网格上；S4、纳米线阵列刻蚀：以金膜为掩模，通过刻蚀液刻蚀获得硅纳米线阵列；S5、纳米线金属化：通过沉积金将硅纳米线阵列转化为金纳米线阵列。本发明制备方法简洁可靠，易于操作，获得的基底具有高重复和高灵敏的表面增强拉曼信号。 | ||
| 搜索关键词： | 金膜 基底 表面增强拉曼 纳米孔阵列 硅片 沉积 制备 硅纳米线阵列 模板复制 漂浮 刻蚀液刻蚀 纳米线阵列 金纳米线 金属网格 铜刻蚀液 自然形成 高重复 金属化 刻蚀液 纳米线 支撑基 漂洗 检测 刻蚀 掩模 成型 灵敏 腐蚀 转化 | ||
【主权项】：
1.基于模板复制技术的表面增强拉曼检测基底的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：纳米孔阵列金膜的成型；S2：金膜与硅片模板的分离；S3：金膜转移到金网格；S4：纳米线阵列刻蚀；S5：纳米线金属化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳拓扑精膜科技有限公司，未经深圳拓扑精膜科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811091546.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
