[发明专利]用于将气相反应物分配至反应腔室的设备和相关方法

摘要

本发明公开一种用于将气相反应物分配至反应腔室的设备。所述设备可包含：被配置成以第一料位容纳源化学品的第一腔室；和第二腔室，其被配置成以第二料位容纳所述源化学品且通过低于所述第一和第二料位的流体通道与所述第一腔室流体连通。所述设备还可包含：与载气进料管线流体连通的第一腔室入口开口，所述载气进料管线被配置成使载气流至所述第一腔室中，以使得所述源化学品的蒸气变得夹带于所述载气中以产生所述气相反应物；第一腔室出口开口，其与气体出口管线流体连通且被配置成用于从所述第一腔室分配所述气相反应物；以及与配备有流量控制器的加压气体进料管线流体连通的第二腔室入口开口，所述流量控制器被配置成用于控制所述第二腔室中的加压气体的流动以控制所述第一腔室中的所述第一料位。还提供用于分配气相反应物的方法。

主权项

1.一种用于将气相反应物分配至反应腔室的设备，所述设备包括：被配置成用于以第一料位容纳源化学品的第一腔室；第二腔室，其被配置成用于以第二料位容纳源化学品且通过低于所述第一和第二料位的流体通道与所述第一腔室流体连通；与载气进料管线流体连通的第一腔室入口开口，所述载气进料管线被配置成使载气流至所述第一腔室中，以使得所述源化学品的蒸气变得夹带于所述载气中以产生所述气相反应物；第一腔室出口开口，其与气体出口管线流体连通且被配置成用于从所述第一腔室分配所述气相反应物；以及与配备有流量控制器的加压气体进料管线流体连通的第二腔室入口开口，所述流量控制器被配置成用于控制所述第二腔室中的加压气体的流动以控制所述第一腔室中的所述第一料位。