[发明专利]图案描绘装置及基板处理装置有效
申请号: | 201811044160.0 | 申请日: | 2016-09-27 |
公开(公告)号: | CN108931899B | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | 加藤正纪;中山修一 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;G02B13/00;G02B26/12;G02F1/11 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明是一种图案描绘装置(EX),其是一面将来自光源(LS)的射束(LB)根据图案信息进行强度调变,一面将射束(LB)投射至基板(P)上而于主扫描方向进行扫描,藉此于基板(P)上形成图案者,且具备:扫描装置(14),其是为了使射束(LB)于主扫描方向上扫描,而将包含使来自光源(LS)的射束(LB)偏向的偏向构件(PM)的多个扫描单元(Un),以投射至基板(P)上的射束(LB)的扫描轨迹相互错开的方式配置;及电光偏向装置(BDU),其是为了将来自光源(LS)的射束(LB)分时供给至多个扫描单元(Un)的各者,而将来自光源(LS)的射束(LB)切换为偏向状态或非偏向状态,并且为了使射束(LB)的扫描轨迹于与主扫描方向交叉的副扫描方向移位,而可调整射束(LB)的偏向角。 | ||
搜索关键词: | 图案 描绘 装置 处理 | ||
【主权项】:
1.一种图案描绘装置,其将在基板上以聚焦光在主扫描方向上扫描的多个描绘单元在上述主扫描方向上排列,并藉由上述描绘单元的各个所进行的聚焦光的扫描在上述基板上描绘图案,且具备:光源装置,其将成为上述聚焦光的射束作为大致平行的激光射出;多个选择用光学元件,其与上述多个描绘单元的各个对应而设,且以依序透过来自上述光源装置的大致平行的上述射束的方式设置,并在施加驱动信号时相对上述射束产生偏向的绕射光射束;中继系统,其使上述多个选择用光学元件的各个成为光学上共轭的关系,并在依上述射束透过的顺序成为前段与后段关系的2个上述选择用光学元件之间形成上述射束的光束腰;及分支反射镜,其配置在上述光束腰的位置或在其附近的位置,且将由上述成为前段的选择用光学元件产生的上述绕射光朝向对应的1个上述描绘单元反射。
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