[发明专利]一种蒸发源及蒸镀装置有效
| 申请号： | 201811034845.7 | 申请日： | 2018-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN109136855B | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 裴凤巍 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/26 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供一种蒸发源及蒸镀装置，涉及蒸镀设备技术领域，能够解决现有的蒸发源沿蒸镀口的排布方向，膜层的厚度均一性较差的问题。所述蒸发源包括坩埚，坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，蒸发源还包括：旋转装置，设置于坩埚的底部，用于旋转时带动坩埚旋转。本发明用于蒸镀设备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蒸发 装置 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发源，包括坩埚，所述坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，其特征在于，所述蒸发源还包括：旋转装置，设置于所述坩埚的底部，用于旋转时带动所述坩埚旋转。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811034845.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：壳体制作方法、壳体及电子设备
- 下一篇：膜厚监测装置、成膜设备
- 同类专利
- 专利分类
