[发明专利]一种蒸发源及蒸镀装置

说明书

本发明实施例提供一种蒸发源及蒸镀装置，涉及蒸镀设备技术领域，能够解决现有的蒸发源沿蒸镀口的排布方向，膜层的厚度均一性较差的问题。所述蒸发源包括坩埚，坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，蒸发源还包括：旋转装置，设置于坩埚的底部，用于旋转时带动坩埚旋转。本发明用于蒸镀设备。

技术领域

本发明涉及蒸镀设备技术领域，尤其涉及一种蒸发源及蒸镀装置。

背景技术

目前，真空蒸发镀膜工艺在有机电致发光显示装置(Organic Electro-luminescent Display，简称OLED)、液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称LCD)等的制作过程中被广泛使用。真空蒸发镀膜的基本原理是将镀膜材料放置于蒸镀装置的蒸发源中加热蒸发，形成的镀膜材料的气体分子或原子沉积到待镀膜基板上形成膜层。

现有蒸镀装置的蒸发源常使用线性蒸发源，线性蒸发源的结构如图1所示，包括坩埚01，坩埚01包括条状的坩埚本体011、设置在坩埚本体011开口端的坩埚盖子012。坩埚盖子012上设置有沿坩埚本体011的延伸方向排布的多个蒸镀口013。其中，坩埚本体011用于容纳镀膜材料，镀膜材料蒸发后通过蒸镀口013沉积在待镀膜基板上，坩埚本体011内还设置有用于加热镀膜材料的加热丝014。

在实际蒸镀过程中，线性蒸发源采用来回扫描的方式进行扫描，形成的膜层厚度沿扫描方向均一性较好，但沿多个蒸镀口013的排布方向膜层的厚度均一性一般较差，这可能是由于多个蒸镀口013的口径在设计时有差异所致，或者是镀膜材料在蒸镀过程中各位置受热不均匀所致。这些都会导致从多个蒸镀口013蒸发出的镀膜材料的量不相同，进而导致沿多个蒸镀口013的排布方向，膜层的厚度均一性较差。

发明内容

本发明的实施例提供一种蒸发源及蒸镀装置，能够解决现有的蒸发源沿蒸镀口的排布方向，膜层的厚度均一性较差的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，本发明实施例提供一种蒸发源，包括坩埚，所述坩埚的顶部设置有多个蒸镀口，所述蒸发源还包括：旋转装置，设置于所述坩埚的底部，用于旋转时带动所述坩埚旋转。

可选的，所述坩埚包括一端开口的坩埚本体和用于封闭所述坩埚本体的开口端的坩埚盖子，多个所述蒸镀口设置在所述坩埚盖子上。

可选的，所述坩埚本体为条状，多个所述蒸镀口沿所述坩埚本体的延伸方向排布在所述坩埚盖子上。

可选的，所述蒸发源还包括承载槽，用于放置所述坩埚；所述承载槽与所述旋转装置固定连接。

可选的，所述坩埚本体卡入所述承载槽内。

可选的，所述承载槽上设置有第一连接部，所述旋转装置上设置有第二连接部；所述第一连接部与所述第二连接部配合连接。

可选的，所述第一连接部为凸起，所述第二连接部为凹槽；或者，所述第一连接部为凹槽，所述第二连接部为凸起。

可选的，所述凹槽的形状和所述凸起的形状均为十字型。

可选的，所述旋转装置包括旋转盘和与所述旋转盘连接的驱动件，所述驱动件用于驱动所述旋转盘旋转；所述旋转盘与所述承载槽固定连接。

可选的，所述驱动件为电机。

可选的，所述旋转盘为椭圆形，所述旋转盘的长轴方向与所述坩埚本体的延伸方向相同。

可选的，所述蒸发源还包括底部加热结构；所述底部加热结构包括多个片状加热网，多个片状加热网两两交叉分布；所述片状加热网与所述坩埚本体的底面垂直，且所述片状加热网的网格延伸至所述坩埚本体的内侧壁。