[发明专利]一种超滑表面的制备方法

摘要

本发明公开了一种超滑表面的制备方法，包括以下步骤：第一步，旋涂第一层紫外光刻正胶，进行常规光刻；第二步，旋涂第二层紫外光刻负胶，倾斜基底进行光刻；第三步，浸涂低表面能纳米颗粒；第四步，浸润润滑油。本发明通过旋涂双层紫外光刻胶，进行两次光刻，并且光刻时采用常规光刻与倾斜基底光刻相结合从而在常规光刻图案基底上又增加了一层具有一定倾斜角度的单向倾斜的，可自由调控的微结构；然后再浸涂低表面能纳米颗粒从而构建出微纳复合结构。这种倾斜与垂直的微米级结构之间形成的半闭锁空间，结合浸涂纳米颗粒增加的粗糙度使得润滑油更容易的留存在结构之中，使得润滑油不容易流失，从而有利于锁住润滑油。

主权项

1.一种超滑表面的制备方法，其特征在于包括以下步骤：第一步，旋涂第一层紫外光刻正胶，进行常规光刻(1)根据需要，预先设计出将要光刻的图案；(2)取一硅基底，依次用丙酮、乙醇、去离子水超声清洗，并用氮气吹干；(3)将洁净的硅基底放在匀胶机上，使用微量移液器在硅基底上滴入适量紫外光刻正胶，设定好匀胶机的转速和时间，进行匀胶；(4)将匀胶完成后的硅基底水平固定在光刻机上进行光刻；(5)光刻完成后，立即放入正胶对应的显影液中显影，显影完成后用去离子水冲洗并干燥；第二步，旋涂第二层紫外光刻负胶，倾斜基底进行光刻(1)将第一步光刻后的硅基底再次放在匀胶机上，使用微量移液器在硅基底上滴入适量紫外光刻负胶，设定好匀胶机的转速和时间，进行匀胶；(2)将匀胶完成后的硅基底倾斜固定在光刻机上，进行光刻；(3)光刻完成后，立即放入负胶对应的显影液中显影，显影完成后用去离子水冲洗并干燥；第三步，浸涂低表面能纳米颗粒(1)将含低表面能纳米颗粒的悬浮液超声分散到去离子水中配置成分散液待用；(2)将上述紫外光刻后的硅基底浸泡在分散液中一定的时间，然后缓慢取出；(3)将浸泡后的硅基底在室温下自然干燥，随后将其移至真空干燥箱中加热固化；(4)固化完成后冷却至室温；第四步，浸润润滑油(1)使用微量移液器在上述构建的粗糙结构上滴加适量的润滑油，直至表面全部被润滑油膜覆盖；(2)将浸润了润滑油的硅基底倾斜放置一定的时间，以去除基底表面多余的润滑油，从而制得超滑表面。