[发明专利]像素结构及其制作方法、纳米压印模版、显示器件在审
| 申请号: | 201810993241.9 | 申请日: | 2018-08-29 |
| 公开(公告)号: | CN110429101A | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
| 发明(设计)人: | 高卓 | 申请(专利权)人: | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56;G09G3/3266;G03F7/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 李悦 |
| 地址: | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明涉及一种像素结构及其制作方法、纳米压印模版、显示器件。该像素结构包括设置在基板上的多个第一像素组、多个第二像素组和多个第三像素组;每个第一像素组由纵向排列的两个第一子像素构成,每个第二像素组由纵向排列的两个第二子像素构成,第一像素组和第二像素组在横向上交替排列形成混合像素组,每个第三像素组由横向排列的多个第三子像素构成,第三像素组与混合像素组在纵向上交替排列,且相邻的一个所述第一子像素、一个所述第二子像素及一个所述第三子像素构成一个像素单元;第一子像素、第二子像素和第三子像素的颜色各异。上述的像素结构,可降低打印设备和工艺的精度要求,获得高分辨率的显示器件。 | ||
| 搜索关键词: | 像素组 子像素 像素结构 显示器件 纳米压印模版 混合像素 交替排列 纵向排列 打印设备 高分辨率 横向排列 精度要求 像素单元 基板 制作 | ||
【主权项】:
1.一种像素结构,其特征在于,包括设置在基板上的多个第一像素组、多个第二像素组和多个第三像素组;每个所述第一像素组由纵向排列的两个第一子像素构成,每个所述第二像素组由纵向排列的两个第二子像素构成,所述第一像素组和所述第二像素组在横向上交替排列形成混合像素组,每个所述第三像素组由横向排列的多个第三子像素构成,所述第三像素组与所述混合像素组在纵向上交替排列,且相邻的一个所述第一子像素、一个所述第二子像素及一个所述第三子像素构成一个像素单元;所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素的颜色各异。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东聚华印刷显示技术有限公司,未经广东聚华印刷显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810993241.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:显示面板及其制备方法和应用
- 下一篇:像素结构与显示器件
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





