[发明专利]拾取及放置操作期间的冷流体半导体装置释放以及相关系统及方法在审
申请号: | 201810953097.6 | 申请日: | 2018-08-21 |
公开(公告)号: | CN109427644A | 公开(公告)日: | 2019-03-05 |
发明(设计)人: | J·E·明尼克;B·L·麦克莱恩;T·M·延森 | 申请(专利权)人: | 美光科技公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 王龙 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本申请案涉及拾取及放置操作期间的冷流体半导体装置释放以及相关系统及方法。揭示用于在拾取及放置操作期间释放半导体裸片的系统及方法。在一个实施例中,一种用于处置半导体裸片的系统包括支撑构件,其经定位以承载可释放地附接到支撑衬底的至少一个半导体裸片。所述系统进一步包含拾取装置,其具有拾取头,所述拾取头可耦合到真空源并且经定位以可释放地附接到在拾取站处的所述半导体裸片。所述系统还进一步包含冷却构件,其可耦合到冷流体源并且经配置以将由所述冷流体源供应的冷流体引导朝向在所述拾取站处的所述支撑衬底。所述冷流体冷却所述衬底的裸片附接区,所述半导体裸片在所述裸片附接区附接到所述衬底以便于所述半导体裸片的移除。 | ||
搜索关键词: | 半导体裸片 拾取 冷流体 衬底 操作期间 半导体装置 冷流体源 可释放 拾取头 耦合到 附接 裸片 释放 冷却构件 拾取装置 支撑构件 申请案 真空源 移除 支撑 冷却 承载 配置 | ||
【主权项】:
1.一种用于处置半导体裸片的系统,其包括:支撑构件,其经定位以承载可释放地附接到支撑衬底的裸片附接区的至少一个半导体裸片;拾取装置,其具有真空拾取头并经定位以在拾取站处拾取所述半导体裸片;以及冷却构件,其经配置以将冷流体引导朝向在所述拾取站处的所述裸片附接区。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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