[发明专利]一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光方法

摘要

本发明涉及曝光设备技术领域，且公开了一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光方法，包括曝光装置，所述曝光装置包括箱体，箱体内的顶部固安装有超高压汞灯，该超高压汞灯的正下方设置有掩膜板，掩膜板两侧的中部分别对称设置有第一压杆与第二压杆，掩膜板的正下方设置有曝光台，曝光台的上表面上设置有凹槽，该凹槽内放置有基板，凹槽的两侧分别设置有对称的导轨槽，导轨槽里分别滑动连接有对称设置在刮板的底端两侧的滑块；基板与掩膜板之间设置有透光板；箱体左侧壁上的第一通气口与制冷装置的冷气口连接；箱体右侧壁上的第二通气口通过安装有抽气泵的导气管与气体净化装置的进气口连接。本发明解决了掩膜板容易受到光刻胶污染的问题。

主权项

1.一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光方法，其特征在于：按下曝光装置1的箱体11的箱门上的按压弹簧，拉动箱门把手12，打开箱门，将基板4放置在曝光台3的凹槽36内，将光刻胶喷涂在基板4的表面上，拉动刮板32顶端中部的板拉手34，使光刻胶均匀地涂覆在基板4的表面上，调节第一压杆51与第二压杆52的转动手轮，使掩膜板5向基板4移动，至透光板6的下表面与基板4上的光刻胶表面完全接触，继续调节转动手轮，使第一压杆51与第二压杆52继续下降5mm，使第一压杆51与第二压杆52压紧掩膜板5，使掩膜板5、透光板6与基板4紧密接触，此时，关闭箱门；接着，开启制冷装置7，冷媒通过压缩机73压缩转变为高温高压的气体，通过导气管进入冷凝器76，在冷凝器76吸冷放热后变成中温高压的液体，经过节流阀75后，变成低温低压的液体，经过蒸发器74吸热放冷作用后，变成低温低压的气体，经过导气管回到压缩机73，此时，通过风扇经冷气口71和第一通气口13使蒸发器74产生的冷气加速向曝光装置1的箱体11内输送冷气；曝光装置1通过开启超高压汞灯2发出UV紫外光线，将掩模板5上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板4的表面上，基于掩模板5的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分，利用显影液对光刻胶进行显影，去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分，从而使光刻胶形成所需的图形；打开抽气泵8，将曝光装置1的箱体11内的气体抽出并通过导气管导入气体净化装置9的进气口91，经过蜂窝吸附器93的蜂窝结构架94的内侧壁上的活性炭吸附膜和填充在蜂窝结构架94腔体内的活性炭纤维素95对光刻胶挥发析出的二甲苯等挥发性有机物进行吸附除去，将除去污染性有机物的气体经排气口92排出。