[发明专利]一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光方法

说明书

本发明涉及曝光设备技术领域，且公开了一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光方法，包括曝光装置，所述曝光装置包括箱体，箱体内的顶部固安装有超高压汞灯，该超高压汞灯的正下方设置有掩膜板，掩膜板两侧的中部分别对称设置有第一压杆与第二压杆，掩膜板的正下方设置有曝光台，曝光台的上表面上设置有凹槽，该凹槽内放置有基板，凹槽的两侧分别设置有对称的导轨槽，导轨槽里分别滑动连接有对称设置在刮板的底端两侧的滑块；基板与掩膜板之间设置有透光板；箱体左侧壁上的第一通气口与制冷装置的冷气口连接；箱体右侧壁上的第二通气口通过安装有抽气泵的导气管与气体净化装置的进气口连接。本发明解决了掩膜板容易受到光刻胶污染的问题。

技术领域

本发明涉及曝光设备技术领域，具体为一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光方法。

背景技术

曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备。

曝光机在工作过程中，当掩膜板直接与光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，但是掩膜板直接与光刻胶层相接触，掩膜板容易受到光刻胶的污染，进而加速掩膜板的磨损，使掩膜板容易损坏，从而降低曝光出来图形的清晰图，导致曝光出来的图形分辨率不佳的技术问题。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光方法，具备能够有效防止光刻胶污染掩膜板、提高曝光图案清晰度、具有更好的曝光效果、降低紫外线能量、吸收紫外线、增加光刻胶在基板表面分布的均匀性、降低光刻胶在基板表面分布的流动性、吸附光刻胶挥发析出的二甲苯等优点，解决了掩膜板容易受到光刻胶的污染，降低其使用寿命和曝光清晰度，进而降低曝光效果的问题。

(二)技术方案

为实现上述防止光刻胶污染掩膜板的目的，本发明提供如下技术方案：

一种有效防止光刻胶污染掩膜板的曝光方法，包括曝光装置，所述曝光装置包括箱体，箱体的前侧壁上开设有箱门，箱门的一侧通过合页与箱体铰接，其另一侧通过按压弹簧与箱体非固定连接，该按压弹簧的正下方安装有箱门把手；箱体的左侧壁上开设有第一通气口，箱体的右侧壁上开设有第二通气口；

箱体内的顶部固定安装有超高压汞灯，该超高压汞灯的正下方设置有掩膜板，掩膜板两侧的中部分别对称设置有第一压杆与第二压杆，第一压杆与第二压杆的一端均固定安装在掩膜板的表面上，其另一端均从箱体腔体内经其顶部穿出，位于箱体外部的第一压杆与第二压杆的端部均安装有转动手轮且通过限位板连接；

掩膜板的正下方设置有曝光台，曝光台的底端固定安装有呈对称设置的四个支撑柱，曝光台的上表面上设置有凹槽，该凹槽内放置有基板，且基板的上表面与曝光台的上表面设置在同一水平面上，凹槽的两侧分别设置有对称的导轨槽，呈对称设置的两个导轨槽的槽道里分别滑动连接有对称设置在刮板的底端两侧的滑块，刮板的顶端中部固定安装有板拉手，刮板的底端面与基板的上表面为移动线接触；

基板与掩膜板之间设置有透光板，透光板的上表面的中部设置有掩膜板，掩膜板与透光板之间通过螺杆连接，该螺杆的一端部通过螺纹与螺母连接；

第一通气口通过导气管与制冷装置的冷气口连接，该冷气口开设在蒸发器的一侧；

第二通气口通过安装有抽气泵的导气管与气体净化装置的进气口连接，该进气口与设置在气体净化装置的腔体内的蜂窝吸附器的开口端呈相互垂直设置。

优选的，所述箱体的内壁上设置有瓦楞板。

优选的，所述瓦楞板的表面上涂覆有黑色的遮光胶。