[发明专利]电解抛光液以及加工金属的制造方法在审
| 申请号： | 201810931207.9 | 申请日： | 2018-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN109778295A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 长沢壮平;香取光臣;白川周平 | 申请（专利权）人： | 日本表面化学株式会社 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种实质上不含磷以及氮的电解抛光液。该电解抛光液是金属用电解抛光液，其中，至少含有以下(1)～(2)的成分：(1)选自无机磺酸、有机磺酸以及它们的盐中的至少一种；(2)选自一元及多元醇中的至少一种，所述电解抛光液实质上不含氮以及磷，pH小于2。 | ||
| 搜索关键词： | 电解抛光液 金属 有机磺酸 多元醇 抛光液 磺酸 加工 制造 | ||
【主权项】：
1.一种抛光液，其是金属用电解抛光液，其中，至少含有以下(1)～(2)的成分：(1)选自无机磺酸、有机磺酸以及它们的盐中的至少一种；(2)选自一元及多元醇中的至少一种，所述电解抛光液实质上不含氮以及磷，pH小于2。
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