[发明专利]微纳结构的制作方法及用于该制作方法中的系统在审
| 申请号： | 201810864075.2 | 申请日： | 2018-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN109031884A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 陶华露;李文杰;童君;程冠铭;冯叶;隋帆;李伟民;钟国华;杨春雷 | 申请（专利权）人： | 深圳先进技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 518055 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了微纳结构的制作方法及用于该制作方法中的系统，所述制作方法包括步骤：提供一衬底，并在所述衬底上制作形成相变薄膜；在所述相变薄膜上覆设非线性饱和吸收膜；利用激光穿过所述非线性饱和吸收膜，并按照预定图案对所述相变薄膜进行曝光；利用显影液对曝光后的相变薄膜进行显影，同时将所述非线性饱和吸收膜去除。所述方法一方面通过在相变薄膜上覆设非线性饱和吸收膜，使激光穿过所述非线性饱和吸收膜，对相变薄膜进行曝光以制作微纳结构，使激光光束更为集中，缩小了光斑，提高了制得的微纳结构的精度；另一方面选用飞秒激光作为激光源，避免激光的热效应影响非曝光区域，从而进一步提高了微纳结构的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 相变薄膜 饱和吸收 微纳结构 制作 激光 衬底 曝光 热效应 非曝光区域 穿过 飞秒激光 激光光束 预定图案 光斑 激光源 膜去除 显影液 显影 | ||
【主权项】：
1.一种微纳结构的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括步骤：提供一衬底，并在所述衬底上制作形成相变薄膜；在所述相变薄膜上覆设非线性饱和吸收膜；利用激光穿过所述非线性饱和吸收膜，并按照预定图案对所述相变薄膜进行曝光；利用显影液对曝光后的相变薄膜进行显影，同时将所述非线性饱和吸收膜去除。
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