[发明专利]一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法

摘要

本发明公开了一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法，涉及光学制造与光学材料加工领域。该方法包括：(1)首先确定抛光盘特征参数；(2)对抛光盘进行环带分割，并计算环带去除函数h_i；(3)根据优化目标计算环带权重值：将目标去除函数H作为优化目标，设每一条环带去除函数h_i的权重值为x_i，采用线性优化方法解出满足误差函数Δ＝H‑Σ(h_i×x_i)最小的各环带权重值x_i，x_i满足非负值条件；(4)异形盘图案设计与制作。本发明能够根据目标去除函数反演，快速得到异形抛光盘面形的最优解，有效提高异形抛光盘的设计效率，具有实现复杂形状的异形抛光盘设计的能力，实现复杂图案设计结果的快速、精确制作，缩短抛光周期，提升抛光精度，改善抛光质量。

主权项

1.一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：(1)首先确定抛光盘特征参数：所述抛光盘运动特征参数包括抛光盘特征尺寸D、偏心距e与自转、公转转速比m；对于圆形抛光盘，特征尺寸D为其直径，对于其它非圆形抛光盘，特征尺寸D为以其旋转中心为圆心覆盖其形状的最小外接圆直径；(2)对抛光盘进行环带分割，针对每一条环带，采用数值建模方法计算所述抛光盘特征参数得到去除函数h_i，或由实验方法制作环形抛光盘，基于所述抛光盘特征参数通过抛光实验得到去除函数h_i：(3)根据优化目标计算环带权重值：将目标去除函数H作为优化目标，设每一条环带去除函数h_i的权重值为x_i，采用线性优化方法解出满足误差函数Δ＝H‑Σ(h_i×x_i)最小的各环带权重值x_i，x_i满足非负值条件；(4)异形盘图案设计与制作：将求解出的各环带权重值x_i乘以各环带面积作为各环带实际填充面积，并设计异形抛光盘的形状，采用激光剪裁方法，在阻尼布抛光垫上制作满足要求的异性抛光盘图案，完成异形抛光盘的制作。