[发明专利]基于ZnMgO/MgO/ZnO异质结材料的光电器件吸收光谱确定方法有效
申请号: | 201810844638.1 | 申请日: | 2018-07-27 |
公开(公告)号: | CN109033739B | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 刘妍;王平 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G16C20/30 | 分类号: | G16C20/30 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 王品华;朱红星 |
地址: | 710071 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于ZnMgO/MgO/ZnO异质结材料的光电器件吸收光谱确定方法,主要解决现有光电器件不能在制备前测试吸收光谱的问题。其包括:1)设置ZnMgO/MgO/ZnO异质结的参数,依次计算异质结中的压电极化强度、极化电荷面密度、内建电场和体系导带带阶;2)联立计算异质结的费米能级、电子浓度和离化杂质浓度及电子波函数和量子能级;3)计算子带间跃迁光学吸收系数;4)根据1)‑3)的参数及公式计算不同Mg组分、不同势阱层厚度和不同势垒层厚度下子带间跃迁光学吸收系数,并对其拟合得到吸收光谱。本发明能在制作器件前确定其工作波段,可用于设计基于ZnMgO/MgO/ZnO异质结材料的光电器件。 | ||
搜索关键词: | 基于 znmgo mgo zno 异质结 材料 光电 器件 吸收光谱 确定 方法 | ||
【主权项】:
1.基于ZnMgO/MgO/ZnO异质结材料的光电器件吸收光谱确定方法,其特征在于,包括如下:1)根据ZnMgO/MgO/ZnO异质结的结构和实验结果,设置结构参数和材料参数;2)根据材料参数,利用压电极化强度公式,计算得到MgO层和Zn1‑xMgxO层的压电极化强度PPE(MgO)和PPE(Zn1‑xMgxO),并将其带入极化电荷面密度公式,得到ZnMgO/MgO界面和MgO/ZnO界面的极化电荷面密度σZnMgO/MgO和σMgO/ZnO;3)将结构参数与材料参数和压电极化强度带入内建电场强度公式,得到Zn1‑xMgxO/MgO/ZnO异质结中的势垒层内建电场F1、插入层的内建电场F2和势阱里的内建电场F3;4)选取ZnO导带的底端为势能零点,根据材料参数,通过势垒高度公式,计算得到体系导带带阶UC(z);5)根据1)所设定的结构参数、材料参数,利用电中性条件公式,电子浓度公式和电子离化杂质浓度公式,对其联立计算后则可以获得ZnMgO/MgO/ZnO异质结的费米能级Ef,m束缚态上的电子浓度nm和离化杂质浓度
6)根据步骤3)‑5)得到的所有参数,在z方向通过迭代法联立求解如下薛定谔和泊松方程,得到Zn1‑xMgxO/MgO/ZnO异质结的电子波函数ζm(z)和量子化能级Em;7)设定MgO/ZnO量子阱的宽度L,并将步骤6)得到的量子本征波函数ζm(z)和量子化能级Em带入子带间跃迁矩阵元公式,得到子带间跃迁矩阵元Mmn;8)设定入射光光强I=50MW/cm2和子带驰豫时间τin=20fs,使用密度矩阵方法将1)得到的材料参数、5)得到的费米能级Ef、7)得到的子带间跃迁矩阵元Mmn和8)得到的不同入射光频率ω、设定的入射光光强I和子带驰豫时间τin带入子带间跃迁光学ITOA系数公式,得到不同入射光波长λ对应的ITOA系数α;9)对不同入射光波长λ对应的ITOA系数α进行曲线拟合仿真,得到ZnMgO/MgO/ZnO异质结的吸收光谱;10)改变ZnMgO/MgO/ZnO异质结的结构参数,重复步骤2)‑9),得到不同Mg组分x、不同的势阱层厚度d3和不同势垒层厚度d1条件下Zn1‑xMgxO/MgO/ZnO异质结的吸收光谱。
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