[发明专利]一种真空泄漏判断控制系统在审
申请号: | 201810838082.5 | 申请日: | 2018-07-26 |
公开(公告)号: | CN109269734A | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 刘自芳 | 申请(专利权)人: | 合肥瑞智电力电子有限公司 |
主分类号: | G01M3/20 | 分类号: | G01M3/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230009 安徽省合肥市蜀*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种真空泄漏判断控制系统,包括上位机、PLC和真空计,所述上位机与PLC连接,所述上位机与真空计信号连接,所述PLC与四极质谱仪电性连接。本发明的上位机对PLC发出执行命令,PLC控制下层单元,如各真空泵及真空阀的启停操作;上位机对PLC和其它连接设备反馈回的信息及时处理并且实时显示;在检漏判断时,自动绘制出压强-时间的曲线,使操作人员能够很快判断出泄漏原因,用于分析残留气体成分和检漏的四极质谱仪集成在控制系统内,使操作更加灵活方便。 | ||
搜索关键词: | 上位机 判断控制系统 四极质谱仪 真空泄漏 真空计 检漏 压强 残留气体 电性连接 控制系统 连接设备 实时显示 下层单元 信号连接 真空泵 真空阀 启停 泄漏 绘制 反馈 灵活 分析 | ||
【主权项】:
1.一种真空泄漏判断控制系统,包括上位机、PLC和真空计,其特征在于,所述上位机与PLC连接,所述上位机与真空计信号连接,所述PLC与四极质谱仪电性连接。
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