[发明专利]一种真空泄漏判断控制系统

说明书

本发明公开了一种真空泄漏判断控制系统，包括上位机、PLC和真空计，所述上位机与PLC连接，所述上位机与真空计信号连接，所述PLC与四极质谱仪电性连接。本发明的上位机对PLC发出执行命令，PLC控制下层单元，如各真空泵及真空阀的启停操作；上位机对PLC和其它连接设备反馈回的信息及时处理并且实时显示；在检漏判断时，自动绘制出压强－时间的曲线，使操作人员能够很快判断出泄漏原因，用于分析残留气体成分和检漏的四极质谱仪集成在控制系统内，使操作更加灵活方便。

技术领域

本发明属于真空检漏技术领域，具体涉及一种真空泄漏判断控制系统。

背景技术

对于任何一个真空系统或真空容器来说，都不存在绝对不漏的现象。当真空抽不上去，达不到预定要求时，首先要判断是否存在漏气，其次要判断漏孔大小，进而找出漏孔位置并且削除漏气现象。在判断是否存在漏气现象时，不仅包括从真空系统漏孔或间隙上渗漏的气体，还有材料的气体放出，这就导致真空室内有多种残留气体。

一个真空系统来说，如果抽气到一段时间后，没有达到预定的要求，在现有的控制系统下并没有泄漏判断这一环节，因此在判断原因时，会显得比较盲目并且要花费大量的时间，这样会严重影响工作效率。同时，现有的判断方式，并不能分析出残留气体的成分，也不利于检漏工作的有效进行。

随着质谱技术的发展，四极质谱仪作为一种非常有用的残余气体分析工具，其灵敏度高、体积小、价格便宜等诸多优点，将在真空检漏领域发挥越来越大的作用。

发明内容

本发明的目的在于提供一种真空泄漏判断控制系统，在泄漏判断时，可很快判断出是何种原因导致真空抽不上去，在找到原因后，判断出真空室内的残留气体成分，提高检漏工作的效率。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种真空泄漏判断控制系统，包括上位机、PLC和真空计，所述上位机与PLC连接，所述上位机与真空计信号连接，所述PLC与四极质谱仪电性连接。

优选的，所述上位机包括触摸屏和工控机，所述工控机与PLC信号连接。

优选的，所述真空计与真空规管连接。

优选的，所述四极质谱仪安装在真空系统中。

本发明的技术效果和优点：该真空泄漏判断控制系统，与传统技术相比，本发明的上位机对PLC发出执行命令，PLC控制下层单元，如各真空泵及真空阀的启停操作；上位机对PLC和其它连接设备反馈回的信息及时处理并且实时显示；在检漏判断时，自动绘制出压强－时间的曲线，使操作人员能够很快判断出泄漏原因，用于分析残留气体成分和检漏的四极质谱仪集成在控制系统内，使操作更加灵活方便。

附图说明

图1是本发明的控制系统简图；

图2是本发明的真空系统简图；

图3是本发明的控制系统压力－时间曲线图；

图4是本发明的控制系统操作流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明提供了如图1-2所示的真空泄漏判断控制系统，主要包括上位机、PLC和真空计；所述上位机包括触摸屏和工控机；所述上位机与PLC连接，向PLC发出指令控制外部设备的操作，同时读取PLC从外部设备反馈的数据信息；所述上位机与真空计信号连接，实时读取真空系统的压强值；所述PLC与四极质谱仪电性连接，实时分析真空室内残留气体的成份和含量。