[发明专利]一种阳极结构及磁控溅射装置

摘要

本发明公开了一种阳极结构及磁控溅射装置，该阳极结构包括：第一阳极，设置于阴极靶与第二阳极之间，用于遮挡向第二阳极溅射的靶材粒子；第二阳极，用于吸收中和由所述阴极靶溅射过来的电子；磁体，用于产生附加磁场以对所述电子的运动形成导向作用，以引导所述电子向所述第二阳极运动。该磁控溅射装置包括所述阳极结构。本发明能够保证阳极结构始终有效将薄膜的靶材粒子和电子选择性的沉积在不同的阳极结构上，因此，避免了电子和溅射离子沉积在同一阳极，阳极消失和放电的现象。

主权项

1.一种阳极结构，其特征在于，包括：第一阳极(1)，设置于阴极靶(13)与第二阳极(2)之间，用于遮挡向第二阳极(2)溅射的靶材粒子；第二阳极(2)，用于吸收中和由所述阴极靶(13)溅射过来的电子；磁体(4)，用于产生附加磁场以对所述电子的运动形成导向作用，以引导所述电子向所述第二阳极(2)运动。