[发明专利]应变平衡GeSn红外光电探测器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810836030.4 申请日: 2018-07-26
公开(公告)号: CN110767766B 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 汪巍;方青;涂芝娟;曾友宏;蔡艳;王庆;王书晓;余明斌 申请(专利权)人: 上海新微技术研发中心有限公司
主分类号: H01L31/09 分类号: H01L31/09;H01L31/028;H01L31/18
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤;陈丽丽
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种应变平衡GeSn红外光电探测器及其制造方法。所述应变平衡GeSn红外光电探测器,包括硅衬底以及依次层叠于所述硅衬底上的Ge缓冲层和吸收层;所述吸收层,包括沿垂直于所述硅衬底的方向交替堆叠的拉应变Si1‑x‑yGexSny层与压应变Ge1‑aSna层,以达到应变平衡;其中,0x1,0≤y1,0a1。本发明解除了临界厚度对吸收层厚度的限制,大幅度提高了GeSn红外光电探测器的探测灵敏度。
搜索关键词: 应变 平衡 gesn 红外 光电 探测器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种应变平衡GeSn红外光电探测器,其特征在于,包括硅衬底以及依次层叠于所述硅衬底上的Ge缓冲层和吸收层;/n所述吸收层,包括沿垂直于所述硅衬底的方向交替堆叠的拉应变Si
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