[发明专利]一种双面物理气相沉积镀膜设备及其原理

摘要

本发明公开了一种双面物理气相沉积镀膜设备，包括真空腔室、样品台系统、真空泵系统和电力系统，真空腔室内装有磁控溅射腔体、离子辅助蒸发腔体，磁控溅射腔体内部装有磁控溅射系统、加热系统，该双面镀膜设计，对于需要做双面物理气相沉积镀膜的基材，无翻面操作，减少了操作流程，提升了良品率，降低了生产线成本，同时，相对传统的双面磁控溅射镀膜的设计，因为引入了可以实现更优镀膜特性的IED方式，可以提升单面膜性能，对于一些存在主次面之分的双面膜器件，例如有主受光面的光伏电池、主发光面的发光器件、显示器件等等，而言，该设计可以对成本与性能做到较好的平衡。

主权项

1.一种双面物理气相沉积镀膜设备，包括真空腔室（1）、样品台系统（2）、真空泵系统（3）和电力系统（4），其特征在于：所述真空腔室（1）内装有磁控溅射腔体（12）和离子辅助蒸发腔体（5），所述磁控溅射腔体（12）内部装有磁控溅射系统（6）、加热系统（7）；所述离子辅助蒸发腔体（5）内装有电子束系统（8）、离子源（9）、膜厚仪（10）和挡板系统（11）。