[发明专利]一种应用于中红外波段的硫系波导结构在审
申请号: | 201810782753.0 | 申请日: | 2018-07-17 |
公开(公告)号: | CN108919420A | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
发明(设计)人: | 张巍;赵阳;李承栋;郭盼盼;张培晴;徐培鹏 | 申请(专利权)人: | 宁波大学 |
主分类号: | G02B6/12 | 分类号: | G02B6/12 |
代理公司: | 浙江素豪律师事务所 33248 | 代理人: | 徐芙姗 |
地址: | 315000 浙江省宁波市江北*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种应用于中红外波段的硫系波导结构,其特征在于:包括衬底,缓冲层,低折射率层和光传输层,所述缓冲层位于衬底上,所述低折射率层位于所述缓冲层上,所述光传输层位于所述低折射率层上,所述低折射率层和光传输层为硫化物玻璃制备的硫化物薄膜层,所述缓冲层的折射率小于所述低折射率层的折射率,所述低折射率层的折射率小于所述光传输层的折射率。本发明的优点在于使用该波导结构使用多种硫系材料来制备不同折射率的硫系薄膜,从而通过改变两层薄膜的材料来调节波导的折射率范围。另外通过调节两层薄膜的尺寸,使波导满足单模条件,避免了模式泄露,从而获得尽可能小的传输损耗,使得该硫系波导结构在中红外波段有广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 低折射率层 折射率 硫系 波导结构 光传输层 缓冲层 中红外波段 薄膜 波导 衬底 两层 制备 应用 硫化物薄膜 硫化物玻璃 传输损耗 单模条件 泄露 | ||
【主权项】:
1.一种应用于中红外波段的硫系波导结构,其特征在于:包括衬底(101),缓冲层(102),低折射率层(103)和光传输层(104),所述缓冲层(102)位于衬底(101)上,所述低折射率层(103)位于所述缓冲层(102)上,所述光传输层(104)位于所述低折射率层(103)上,所述低折射率层(103)和光传输层(104)均为硫化物玻璃制备的硫化物薄膜层,所述缓冲层(102)的折射率小于所述低折射率层(103)的折射率,所述低折射率层(103)的折射率小于所述光传输层(104)的折射率。
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