[发明专利]一种应用于中红外波段的硫系波导结构在审
| 申请号： | 201810782753.0 | 申请日： | 2018-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN108919420A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 张巍;赵阳;李承栋;郭盼盼;张培晴;徐培鹏 | 申请（专利权）人： | 宁波大学 |
| 主分类号： | G02B6/12 | 分类号： | G02B6/12 |
| 代理公司： | 浙江素豪律师事务所 33248 | 代理人： | 徐芙姗 |
| 地址： | 315000 浙江省宁波市江北*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 低折射率层 折射率 硫系 波导结构 光传输层 缓冲层 中红外波段 薄膜 波导 衬底 两层 制备 应用 硫化物薄膜 硫化物玻璃 传输损耗 单模条件 泄露 | ||
1.一种应用于中红外波段的硫系波导结构，其特征在于：包括衬底(101)，缓冲层(102)，低折射率层(103)和光传输层(104)，所述缓冲层(102)位于衬底(101)上，所述低折射率层(103)位于所述缓冲层(102)上，所述光传输层(104)位于所述低折射率层(103)上，所述低折射率层(103)和光传输层(104)均为硫化物玻璃制备的硫化物薄膜层，所述缓冲层(102)的折射率小于所述低折射率层(103)的折射率，所述低折射率层(103)的折射率小于所述光传输层(104)的折射率。
2.如权利要求1所述的应用于中红外波段的硫系波导结构，其特征在于：所述低折射率层(103)的折射率范围为2-2.2，该光传输层(104)的折射率在2.4以上
3.如权利要求1或2所述的应用于中红外波段的硫系波导结构，其特征在于：所述衬底(101)的宽度为15μm-20μm，厚度为2500nm；所述缓冲层(102)的宽度为15μm-20μm，厚度为2500nm；所述低折射率层(103)的宽度为5μm-10μm，厚度为800nm-1000nm；所述光传输层(104)的宽度为5μm-10μm，厚度为500nm-600nm。
4.如权利要求1所述的应用于中红外波段的硫系波导结构，其特征在于：所述低折射率层(103)和光传输层(104)的材料为硫化锗玻璃，硫化砷玻璃、硒化砷玻璃、锗锑硒玻璃，锗锑硫玻璃或硒化锑玻璃。
5.如权利要求1所述的应用于中红外波段的硫系波导结构，其特征在于：所述衬底(101)为集成光子学的常用衬底，所述缓冲层(102)的材料包括各种比硫化物玻璃折射率低的光学透明材料。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波大学，未经宁波大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810782753.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：合束器及其制作方法
- 下一篇：一种可调削皮厚度的光缆剥皮装置
