[发明专利]一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体

摘要

本发明公开了一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，包括腔体、安装座和腔门，腔体两个边侧的一端分别设有第一安装板和第二安装板，第二安装板的两端和第一安装板的两端均通过转动接头分别与腔门一端的两侧转动连接，两个腔门的中部均设有观察视窗，本发明一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，该装置工艺气体通过布气管一次导流，均匀分布于下方槽内及产品两侧，反应产物副产物和未电离气体通过腔体底面长方箱体侧板进行第二次导流，然后经过腔体底部外面变径管进行第三次导流。该气动布局能有效保证保证工艺气体均匀分布于各槽及被处理产品两侧、使反应室腔体内部气流及离子平稳交换，使反应稳定均匀没有素流。

主权项

1.一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，包括腔体（1）、安装座（2）和腔门（5），其特征在于，所述腔体（1）的两端分别设有第一门框（4）和第二门框（9），所述第一门框（4）的一边侧和第二门框（9）的一边侧分别设有第一安装板（8）和第二安装板（11），所述第二安装板（11）的两端和第一安装板（8）的两端均通过转动接头（7）分别与腔门（5）一端的两侧转动连接，两个所述腔门（5）的中部均设有观察视窗（6），所述腔体（1）的外壁均匀设有两个加强筋（3），所述腔体（1）的底部设有安装座（2），所述安装座（2）顶部的两边侧均设有滑槽（14），两个所述滑槽（14）分别与固定板（15）的两端滑动连接，所述腔体（1）的底部设有通气腔（12），所述通气腔（12）的底部设有固定环（13），所述腔体（1）的两侧均设有若干通气孔（10）。