[发明专利]一种去除放射性阴离子污染物的正离子共价有机纳米片的制备方法在审
| 申请号： | 201810774381.7 | 申请日： | 2018-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN108970584A | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 杨成雄;达虹鞠;严秀平 | 申请（专利权）人： | 南开大学 |
| 主分类号： | B01J20/22 | 分类号： | B01J20/22;B01J20/30;C02F1/28;G21F9/12 |
| 代理公司： | 天津耀达律师事务所 12223 | 代理人： | 侯力 |
| 地址： | 300071*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种去除放射性阴离子污染物的正离子共价有机纳米片的制备方法，采用溶剂热法制备，步骤如下：将1,4‑二羟基对苯二甲醛与四氢呋喃或1,4‑二氧六环混合并超声5min，另三氨基胍和去离子水混合超声5min，将两种反应液混合后置于120℃条件下反应3d；获得的暗黄色固体离心分离，将分离的固体分别用N,N‑二甲基甲酰胺分别清洗后真空干燥获得需要的正离子共价有机纳米片材料。本发明的优点：制备的正离子共价有机纳米片正离子位点分布均匀，自剥离产生纳米片稳定性好且纳米片结构可暴露出更多的正离子位点，对高铼酸的结合能力强、吸附动力学快、吸附容量大且材料可重复使用，为高效去除放射性阴离子提供了新的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 正离子 有机纳米 共价 去除 制备 放射性 阴离子污染物 纳米片 位点 二甲基甲酰胺 对苯二甲醛 二氧六环 黄色固体 混合超声 结合能力 去离子水 三氨基胍 四氢呋喃 吸附容量 动力学 二羟基 可重复 片材料 溶剂热 阴离子 超声 吸附 清洗 剥离 暴露 | ||
【主权项】：
1.一种去除放射性阴离子污染物的正离子共价有机纳米片的制备方法，其特征在于采用溶剂热法制备稳定性较好的纳米片，步骤如下：1)将1,4‑二羟基对苯二甲醛与四氢呋喃或1,4‑二氧六环混合并超声5min，另将三氨基胍和去离子水混合超声5min，将两种超声均匀的反应液混合；2)将上述反应液在120℃的条件下反应1‑3d，8000rpm‑10000rpm离心收集最后生成的暗黄色固体，将分离的固体分别用N,N‑二甲基甲酰胺和乙醇分别清洗3次，再用四氢呋喃浸泡1d，最后‑0.1MPa真空条件下干燥24h，制得胍基正离子共价有机纳米片材料。
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