[发明专利]一种Fe掺杂单层MoS2有效

专利信息
申请号: 201810768435.9 申请日: 2018-07-13
公开(公告)号: CN108910953B 公开(公告)日: 2020-07-21
发明(设计)人: 彭波;张梦婕 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: C01G39/06 分类号: C01G39/06
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 闫树平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于二维纳米材料的制备,具体涉及一种Fe掺杂单层MoS2化学气相沉积制备方法。本发明分别以升华硫和三氧化钼作为硫源和钼源,选择Fe的化合物作为Fe元素掺杂物,高纯氩气作为载流气体对前驱体进行运输至反应区,基底选择SiO2/Si,在生长反应之前,对基底进行预处理。整个生长过程包括空间气相反应和表面生长两个过程。本发明在空间气相反应过程中生成低价态过渡金属氧化物、过渡金属氧硫化物、过渡金属硫化物等各种中间基团的同时,Fe的化合物也一并随着载流气体在基底上部与各种中间基团进行反应,最后经过吸附、扩散、反应、脱附等过程,在衬底上生长出大面积Fe掺杂的单层MoS2,最大尺寸可达30μm。
搜索关键词: 一种 fe 掺杂 单层 mos base sub
【主权项】:
1.一种Fe掺杂单层MoS2化学气相沉积制备方法,具体包括以下步骤:步骤一:分别称取升华硫1g—1.5g,MoO310mg—20mg,Fe的化合物1mg—10mg,并分别置于三个石英舟中;步骤二:将3,4,9,10‑苝四酸二酐溶于水,其中3,4,9,10‑苝四酸二酐与水的质量比为0.4%—1%;步骤三:将步骤二配制的溶液滴加在SiO2/Si基底上,然后将基底置于40℃—55℃的加热板上,加热3min—15min;步骤四:依次将步骤三操作后的基底、步骤一所述的Fe的化合物、MoO3按远离低温区的方向顺序置于管式炉的高温区,基底与Fe的化合物间距为1cm—5cm,Fe的化合物与MoO3间距为1cm—5cm,Fe的化合物位于高温区的中心位置;将步骤一所述的升华硫置于管式炉低温区中心位置;低温区与高温区的中心间距为25cm—35cm;步骤五:向管式炉中通入流速为80sccm—100sccm的氩气/氢气,排出管中空气后;继续通入流速为30sccm—50sccm的氩气/氢气作为载流气体,管内压力稳定在0.1torr—1torr,氩气/氢气中氢气含量0‑5%;步骤六:对管式炉加热,高温加热区温度设置600℃—800℃,升温时长30min—50min,恒温时间30min—60min;低温加热区温度设置180℃—300℃,升温时长3min—15min,温度稳定后保持至高温区加热结束时一并停止;步骤七:加热结束后,继续通入流速为80sccm—100sccm的氩气/氢气,氢气含量0‑5%,待管式炉自然冷却至室温。
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