[发明专利]一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法

摘要

一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法，涉及纳米制造领域。利用硅烷化试剂修饰基底，使基底表面的单分子层末端基团为惰性基团甲基；利用电子束曝光技术蚀刻单分子层；用带阳离子功能基团的试剂修饰经过处理的基底，使被电子束曝光出来的区域修饰上阳离子功能基团；将设计出特定形状和大小的DNA纳米结构经过退火合成，DNA折纸沉积在基底上，除去金属离子及多余DNA折纸；将基底放在容器中，容器内放入硅源试剂，反应得具有特定纳米图案的掩膜版；用紫外/臭氧处理掩膜版，除去表面的单分子层；利用DNA纳米结构作为图形骨架，硅源在自然条件或酸碱存在的条件下水解，生成二氧化硅包覆DNA骨架。

主权项

1.一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法，其特征在于包括以下步骤：1)利用硅烷化试剂修饰基底，使基底表面的单分子层末端基团为惰性基团甲基；2)利用电子束曝光技术蚀刻单分子层，以达到图形有序、可控；3)用带阳离子功能基团的试剂修饰经过步骤2)处理的基底，使被电子束曝光出来的区域修饰上阳离子功能基团；4)将设计出特定形状和大小的DNA纳米结构经过退火合成，超滤除去多余短链的DNA折纸沉积在基底上，孵育后清洗基底，除去金属离子及多余DNA折纸；5)将基底放在密闭容器中，容器内放入硅源试剂、促进硅源水解的酸或碱溶液，密封反应后，取出基底，即得到具有特定纳米图案的掩膜版；6)用紫外/臭氧处理掩膜版，除去表面的单分子层；利用DNA纳米结构作为图形骨架，利用蒸发法将硅源附着在DNA骨架上，硅源在自然条件或酸碱存在的条件下水解，生成二氧化硅包覆DNA骨架，而DNA纳米结构是由致密的DNA链组成，形成致密的特定形状的二氧化硅图形。