[发明专利]基于自适应惩罚模型的干涉高光谱图像的二次超分辨重建在审
申请号: | 201810665149.X | 申请日: | 2018-06-26 |
公开(公告)号: | CN110648277A | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 温佳;王庆成 | 申请(专利权)人: | 天津工业大学 |
主分类号: | G06T3/40 | 分类号: | G06T3/40 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300387 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于自适应惩罚模型的干涉高光谱图像的二次超分辨重建算法,根据干涉高光谱图像数据的特殊成像原理,提出了一种更适合干涉高光谱数据的自适应惩罚模型的超分辨重建算法。在传统超分辨重建的基础上,本发明采用二次复原对干涉高光谱数据的高频细节进行二次重建,并且对于不同的图像区域,采用不同的自适应惩罚参数。相对于传统Bicubic插值算法,ScSR算法,以及传统的二次复原算法,本发明的超分辨重建效果有明显提高(尤其是在干涉高光谱的干涉条纹部分),并且与高分辨真实数据相比,也获得了更高的信噪比。 | ||
搜索关键词: | 超分辨 自适应 干涉 高光谱数据 惩罚模型 重建算法 重建 高光谱图像数据 高光谱图像 插值算法 成像原理 惩罚参数 复原算法 干涉条纹 高频细节 图像区域 真实数据 传统的 高分辨 高光谱 信噪比 算法 复原 | ||
【主权项】:
1.一种基于自适应惩罚模型的干涉高光谱图像的二次超分辨重建算法,其特征在于:该算法包括以下步骤:/n(1)读取一帧输入测试数据,M×M低分辨的干涉高光谱图像
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