[发明专利]掩模板有效
| 申请号： | 201810652574.5 | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN108441817B | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 邓江涛 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供一种掩模板，其中该掩模板包括掩模板本体，所述掩模板本体上设置有开孔，所述开孔用于通过蒸镀工艺在待蒸镀基板上形成预设蒸镀设计图形，其中所述开孔的尺寸大于所述预设蒸镀设计图形的尺寸。该掩模板通过调整掩模板本体上所设置开孔的尺寸，使设置于掩模板本体上的开孔相对于待蒸镀基板上形成预设蒸镀设计图形的位置，能够适应蒸镀过程中掩模板的变形，能够有效减小显示面板四周的外阴影outer shadow效应的差异，保证显示面板的四周膜层边界尺寸的一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 | ||
【主权项】：
1.一种掩模板，其特征在于，包括：掩模板本体，所述掩模板本体上设置有开孔，所述开孔用于通过蒸镀工艺在待蒸镀基板上形成预设蒸镀设计图形，其中所述开孔的尺寸大于所述预设蒸镀设计图形的尺寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810652574.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种掩模版及蒸镀装置
- 下一篇：一种超厚立方AlN薄膜的制备方法
- 同类专利
- 专利分类
