[发明专利]掩模板

说明书

本发明实施例提供一种掩模板，其中该掩模板包括掩模板本体，所述掩模板本体上设置有开孔，所述开孔用于通过蒸镀工艺在待蒸镀基板上形成预设蒸镀设计图形，其中所述开孔的尺寸大于所述预设蒸镀设计图形的尺寸。该掩模板通过调整掩模板本体上所设置开孔的尺寸，使设置于掩模板本体上的开孔相对于待蒸镀基板上形成预设蒸镀设计图形的位置，能够适应蒸镀过程中掩模板的变形，能够有效减小显示面板四周的外阴影outer shadow效应的差异，保证显示面板的四周膜层边界尺寸的一致性。

技术领域

本发明涉及显示装置制造技术领域，尤其是指一种掩模板。

背景技术

在有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)制造过程中，通常需要采用蒸镀工艺制成OLED器件。蒸镀工艺实际是物理气相沉积(Physical VaporDeposition，PVD)工艺其中的一种，是指物质受热蒸发，在不涉及化学反应的前提下，实现原子或分子从源物质到薄膜的可控转移的薄膜制备方法。具体地，参阅图1所示，蒸镀工艺过程中，在高真空度的腔室环境中通过蒸发源1将物质加热，形成蒸发材料，所蒸发出的蒸镀材料穿过掩模板2上对应的开孔沉积在基板3上，在基板3上制成与掩模板2上开孔对应的薄膜图形。

上述的蒸镀工艺的设置结构中，在真空腔室内，掩模板2需要与基板3相贴合，以使掩模板2上所制成的薄膜图形与基板3上的开孔相一致。然而，实际蒸镀过程中，受蒸发源1的蒸镀角大小、开孔的边缘状态、腔室温度、掩模板2的下垂量和基板3与掩模板2的贴合状态等的影响，在蒸镀完成后不可避免会出现扩张区域A，也即产生外阴影outer shadow效应，形成为图2所示在基板3上蒸镀图形31相较于基板3上的实际的开孔区域32向外扩张的现象。

进一步地，图2所示基板3上蒸镀图形31向外扩张的现象中，蒸镀图形31的各边界与开孔区域32相应的边界之间的间隔相等，也即各蒸镀图形31相较于实际的开孔区域32均匀向外扩张，然而其也仅为蒸镀工艺产生outer shadow的理想形式，实际蒸镀过程中受上述各种因素的影响，基板3上蒸镀图形31的不同边界相较于开孔区域32向外扩张的范围不同，如图3所示，从而导致所制成显示面板的四周出现膜层边界尺寸差异。

发明内容

本发明技术方案的目的是提供一种掩模板，用于解决现有技术进行材料蒸镀时，由于产生外阴影outer shadow效应，基板上蒸镀图形的不同边界相较于掩模板的开孔区域向外扩张的范围不同，导致所制成显示面板的四周出现膜层边界尺寸差异的问题。

本发明实施例提供一种掩模板，其中，包括：

掩模板本体，所述掩模板本体上设置有开孔，所述开孔用于通过蒸镀工艺在待蒸镀基板上形成预设蒸镀设计图形，其中所述开孔的尺寸大于所述预设蒸镀设计图形的尺寸。

可选地，所述的掩模板，其中，所述掩模板本体与所述待蒸镀基板贴合时，所述预设蒸镀设计图形在所述掩模板本体上形成正投影图形，所述正投影图形位于所述开孔之内。

可选地，所述的掩模板，其中，所述开孔的边缘轮廓形成为所述正投影图形的边缘各位置分别等间隔向外扩张的等间隔扩张轮廓。

可选地，所述的掩模板，其中，所述掩模板还包括：

框体，所述掩模板本体包括固定于所述框体上的初始状态和被拉伸后固定于所述框体上的固定状态；

其中在所述固定状态，所述开孔的边缘轮廓为所述正投影图形的等间隔扩张轮廓；在所述初始状态，所述开孔的边缘轮廓为所述正投影图形的边缘各位置不等间隔向外扩张的非等间隔扩张轮廓。

可选地，所述的掩模板，其中，所述开孔的边缘轮廓为所述正投影图形的边缘各位置不等间隔向外扩张的非等间隔扩张轮廓。