[发明专利]一种真空镀钌技术的预处理工艺在审

专利信息
申请号: 201810643513.2 申请日: 2018-06-21
公开(公告)号: CN108690948A 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: 郭顺华;陈敏 申请(专利权)人: 江苏时代华宜电子科技有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/20
代理公司: 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 代理人: 张欢勇
地址: 214000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于镀钌技术工艺,具体涉及一种真空镀钌技术的预处理工艺,包括如下步骤:步骤1,将钼片放入电解池中进行电解脱脂反应,然后利用纯水冲洗干净;步骤2,将冲洗后的钼片加入至混合酸液中进行表面除膜处理,处理后采用纯水冲洗干净;步骤3,将除膜处理后的钼片放入真空设备内抽真空加热反应;步骤4,持续温度,对钼片进行等离子清洗,清洗结束后冷却得到预处理后的钼片。本发明解决了现有技术污染性大,且粘附效果不佳的问题,利用碱电解+混合酸洗+等离子清洗联合技术,有效的提升钼片表面的清洁度,提升钼片与钌层之间结合力。
搜索关键词: 钼片 等离子清洗 预处理工艺 纯水冲洗 真空镀 除膜 放入 预处理 清洁度 电解脱脂 混合酸液 技术工艺 加热反应 真空设备 抽真空 电解池 后冷却 混合酸 碱电解 结合力 污染性 粘附 钌层 冲洗 清洗 联合
【主权项】:
1.一种真空镀钌技术的预处理工艺,其特征在于:按照如下步骤:步骤1,将钼片放入电解池中进行电解脱脂反应,然后利用纯水冲洗干净;步骤2,将冲洗后的钼片加入至混合酸液中进行表面除膜处理,处理后采用纯水冲洗干净;步骤3,将除膜处理后的钼片放入真空设备内抽真空加热反应;步骤4,持续温度,对钼片进行等离子清洗,清洗结束后冷却得到预处理后的钼片。
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