[发明专利]一种双层矩形孔微纳结构的制备方法

摘要

本发明涉及微纳光学技术领域，具体涉及一种双层矩形孔微纳结构的制备方法，解决现有技术中存在的双层矩形孔微纳结构两层矩形孔之间位置很难完全校准的问题，本发明提供了一种双层矩形孔微纳结构的制备方法，采用了先涂覆PMMA光刻胶，然后曝光刻蚀设计图形中的实体部分，留下矩形孔形状的PMMA胶柱，在含有胶柱的基底上蒸镀各纳米层，最后再剥离胶柱的制备方法，解决了上下层结构之间矩形孔很难完全校准的问题，达到了简化制备工艺，降低制备难度，提高结构制备精度的效果。

主权项

1.一种双层矩形孔微纳结构的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1，设计图形：用图形发生器设计双层矩形孔微纳结构图形；步骤2，准备基底：准备ITO玻璃基底并清洗吹干；步骤3，涂光刻胶：用甩胶机在步骤2准备好的ITO玻璃基底上涂覆PMMA光刻胶，厚度为H；步骤4，涂胶后烘干：将步骤3涂覆PMMA光刻胶的基底放在热板上烘干；步骤5，曝光：电子束曝光步骤1中设计的微纳结构矩形孔图形，得到曝光后的基底；步骤6，显影：常温下，将步骤5中曝光好的基底放入显影液中浸泡显影，得到形状为所述微纳结构图形中矩形孔部分形状的PMMA胶柱，高度为H；步骤7，定影：将步骤6浸泡显影后的基底放入定影液中浸泡定影，定影完成后将基底取出，用氮气吹干；步骤8，定影后烘干：将步骤7浸泡定影后并吹干的基底放在热板上烘干；步骤9，镀镍：将步骤8定影后烘干的基底放入电子束真空蒸发镀膜机镀镍；步骤10，蒸镀纳米层：根据实验要求设定各纳米层的材料与厚度，在步骤9得到含有镍层的基底上由下及上依次蒸镀各纳米层；步骤11，剥离PMMA光刻胶：采用lift‑off工艺，将步骤10真空蒸镀后的基底泡在丙酮中，时间至少为12h，溶解PMMA胶柱，步骤10中蒸镀在胶柱顶部的各纳米层随着PMMA光刻胶的溶解一起脱落；步骤12，吹干：用氮气枪吹干步骤11得到的剥离PMMA光刻胶后的微纳结构，得到所述双层矩形孔微纳结构。