[发明专利]真空装置、蒸镀装置及闸阀在审
申请号: | 201810616374.4 | 申请日: | 2018-06-15 |
公开(公告)号: | CN109666888A | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 菅原洋纪;大仓敏和;青沼大介 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/56;H01L51/56 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张宝荣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种能够有效地抑制闸阀结露的真空装置。使用一种真空装置,该真空装置具有:内部空间为减压气氛的腔室;及将腔室的内部空间与外部空间分隔的闸阀,真空装置的特征在于,腔室包括具有开口的第一腔室壁,闸阀以覆盖开口的方式设置,沿着与第一腔室壁交叉的方向开闭,闸阀的第一面与温度比闸阀高的第一构件相向,闸阀的第二面与温度比闸阀低的第二构件相向,第一面的辐射率高于第二面的辐射率。 | ||
搜索关键词: | 闸阀 真空装置 腔室 第一腔室 辐射率 相向 开口 第二构件 方式设置 减压气氛 外部空间 蒸镀装置 第二面 有效地 分隔 结露 开闭 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种真空装置,具有:内部空间为减压气氛的腔室;及将所述腔室的所述内部空间与外部空间分隔的闸阀,所述真空装置的特征在于,所述腔室包括具有开口的第一腔室壁,所述闸阀以覆盖所述开口的方式设置,沿着与所述第一腔室壁交叉的方向开闭,所述闸阀的第一面与温度比所述闸阀高的第一构件相向,所述闸阀的第二面与温度比所述闸阀低的第二构件相向,所述第一面的辐射率高于所述第二面的辐射率。
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