[发明专利]等离子体处理装置和气体喷淋头有效
| 申请号： | 201810567600.4 | 申请日： | 2018-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN108987234B | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木芳彦;町山弥;南雅人 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于改善等离子体工艺的均匀性。本发明的等离子体处理装置，对载置于处理容器内的载置台的基片进行等离子体处理，包括：金属窗，其与上述载置台相对地形成于上述处理容器，具有多个导电性的部分窗部；绝缘物的隔开部件，其设置在上述部分窗部之间以及上述部分窗部与上述处理容器之间；天线，其设置在上述金属窗的上方侧，通过电感耦合使处理气体等离子体化；绝缘体的盖部件，其覆盖上述隔开部件的上述处理容器侧的面，并横跨相邻的上述部分窗部的边缘，多个上述部分窗部各自具有多个第一气孔，上述盖部件具有多个第二气孔，在该盖部件的内部以多个上述第一气孔中的至少任一者和多个上述第二气孔连通的方式向上述处理容器侧的面延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 气体 喷淋 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，其使处理气体等离子体化，来对载置于处理容器内的载置台的被处理基片进行等离子体处理，所述等离子体处理装置的特征在于，包括：金属窗，其与所述载置台相对地形成于所述处理容器，具有多个导电性的部分窗部；绝缘物的隔开部件，其设置在所述部分窗部之间以及所述部分窗部与所述处理容器之间；天线，其设置在所述金属窗的上方侧，通过电感耦合使处理气体等离子体化；和绝缘体的盖部件，其覆盖所述隔开部件的所述处理容器侧的面，并横跨相邻的所述部分窗部的边缘，多个所述部分窗部各自具有多个第一气孔，所述盖部件具有多个第二气孔，在该盖部件的内部以多个所述第一气孔中的至少任一者和多个所述第二气孔连通的方式向所述处理容器侧的面延伸。
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