[发明专利]一种X射线波带片及其制备方法有效
| 申请号： | 201810555564.X | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN108520791B | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 卢维尔;夏洋;孔祥东;韩立 | 申请（专利权）人： | 嘉兴科民电子设备技术有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 11570 北京众达德权知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘杰 |
| 地址： | 314006 浙江省嘉兴市南湖*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及微电子和光学技术领域，尤其涉及一种X射线波带片，所述波带片包括支撑体和薄膜环带结构；所述支撑体为所述波带片的主体支撑，所述支撑体的厚度即为所述波带片的厚度；所述支撑体上设有随机分布的圆孔，所述圆孔的孔径大小即为波带片的直径；所述薄膜环带结构包括第一薄膜材料和第二薄膜材料，所述第一薄膜材料和第二薄膜材料交替沉积在所述圆孔的表面；所述第一薄膜材料的折射率与所述第二薄膜材料的折射率差值能够引起π位相差。本发明提供的大高宽比波带片在能量很高的射线领域有广泛的应用前景。本发明还提供一种X射线波带片的制备方法，采用原子层沉积技术可以获得小的最外环宽度，控制精度可以达到纳米级别。 | ||
| 搜索关键词： | 波带片 薄膜材料 支撑体 圆孔 薄膜环 带结构 折射率 制备 原子层沉积技术 光学技术领域 交替沉积 纳米级别 随机分布 主体支撑 高宽比 位相差 微电子 射线 应用 | ||
【主权项】：
1.一种X射线波带片，其特征在于：所述波带片包括支撑体和薄膜环带结构；所述支撑体为所述波带片的主体支撑，所述支撑体的厚度即为所述波带片的厚度，其中，所述支撑体的厚度大于1μm；所述支撑体上设有随机分布的圆孔，所述圆孔的孔径大小即为波带片的直径；所述薄膜环带结构包括第一薄膜材料和第二薄膜材料，所述第一薄膜材料和第二薄膜材料交替沉积在所述圆孔的表面；所述第一薄膜材料的折射率与所述第二薄膜材料的折射率差值能够引起π位相差，可以实现大于10％的衍射效率，所述衍射效率计算公式为：/n
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