[发明专利]载置台和等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置用的载置台，其可设定的温度的范围宽广，并且，能够细微地控制基片的面内温度分布。一个实施方式的载置台包括静电吸盘。静电吸盘具有基座和吸盘主体。吸盘主体设置在基座上，利用静电引力保持基片。吸盘主体具有多个第1加热器和多个第2加热器。多个第2加热器的个数比多个第1加热器的个数多。第1加热器控制器利用来自第1电源的交流或直流的输出对多个第1加热器进行驱动。第2加热器控制器利用来自第2电源的交流或直流的输出对多个第2加热器进行驱动，该第2电源具有比来自第1电源的输出的功率低的功率。

主权项

1.一种等离子体处理装置用的载置台，其特征在于，包括：供电部，其提供传输来自高频电源的高频的传输路径；和具有基座和吸盘主体的静电吸盘，其中，所述基座具有导电性，设置在所述供电部上，与所述供电部电连接，所述吸盘主体设置在所述基座上，利用静电引力保持基片，所述吸盘主体包括：设置在该吸盘主体内的多个第1加热器，该多个第1加热器在与该吸盘主体的中心轴线正交的该吸盘主体内的面上分布；和设置在该吸盘主体内的多个第2加热器，该多个第2加热器的个数比所述多个第1加热器的个数多，所述多个第2加热器在与所述中心轴线正交的该吸盘主体内的另一面上分布，所述载置台还包括：利用来自第1电源的交流或直流的输出，对所述多个第1加热器进行驱动的第1加热器控制器；和利用来自第2电源的交流或直流的输出，对所述多个第2加热器进行驱动的第2加热器控制器，所述第2电源具有比来自所述第1电源的所述输出的功率低的功率。