[发明专利]光掩模和显示装置的制造方法

摘要

本发明提供光掩模和显示装置的制造方法。通过接近曝光方式将光掩模的转印用图案转印到被转印体上的情况下，难以转印出忠实于光掩模的图案设计的高精细图案。本发明为在透明基板上具备用于在被转印体上形成黑色矩阵的转印用图案的接近曝光用的光掩模，转印用图案具备：第1狭缝图案，其是形成在第1图案形成区域的、实质上由透光部构成的狭缝图案，具有一定宽度W1的部分；第2狭缝图案，其是形成在除了交叉区域以外的第2图案形成区域的、实质上由半透光部构成的狭缝图案，具有比一定宽度W1小的一定宽度W2的部分；和辅助图案，其是未独立地进行解像的图案，对在被转印体上所形成的黑色矩阵像的形状进行修整。

主权项

1.一种光掩模，其是在透明基板上具备用于在被转印体上形成黑色矩阵的转印用图案的接近曝光用的光掩模，其特征在于，将在第1方向上延伸的图案形成区域设为第1图案形成区域、将在与所述第1方向交叉的第2方向上延伸的图案形成区域设为第2图案形成区域、将所述第1图案形成区域与所述第2图案形成区域交叉的区域设为交叉区域时，所述转印用图案具备：第1狭缝图案，其是形成在所述第1图案形成区域的、实质上由透光部构成的狭缝图案，具有一定宽度W1的部分；第2狭缝图案，其是形成在除了所述交叉区域以外的所述第2图案形成区域的、实质上由半透光部构成的狭缝图案，具有比所述一定宽度W1小的一定宽度W2的部分；和辅助图案，其是未独立地进行解像的图案，对在所述被转印体上所形成的所述黑色矩阵像的形状进行修整。