[发明专利]一种自适应的IDW插值方法在审
申请号: | 201810489227.5 | 申请日: | 2018-05-21 |
公开(公告)号: | CN108595387A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 颜金彪;段晓旗;曾敏;刘媛;孙湘艳;邓运员;郑文武 | 申请(专利权)人: | 衡阳师范学院 |
主分类号: | G06F17/18 | 分类号: | G06F17/18;G06F17/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 421002 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明提出一种自适应的IDW插值方法,旨在为空间点数据插值提供更为精确的方法支持。本发明先将点数据进行预处理,再对待插值空间点二阶半径、一阶半径内高密度显著性分析,若二阶半径内为高密度显著,则将二阶半径范围内的样点作为参考点参与到IDW插值中,否则进行一阶半径内高密度显著性分析,若一阶半径内高密度显著,则将一阶半径范围内的点作为参考点进行IDW插值。若一阶、二阶半径内空间样点均不高密度显著,则将待插值点的一阶邻近点作为IDW插值的局部搜索点,进行IDW插值。 | ||
搜索关键词: | 一阶 二阶 显著性分析 参考点 点数据 自适应 样点 预处理 待插值点 方法支持 局部搜索 空间点 邻近点 内空间 | ||
【主权项】:
1.提出一种自适应的IDW插值方法:步骤一:数据预处理包括3个子部分:
数据清理:将位于同一位置、存在压盖情况的空间点保留其中任意一个;
将清理过后的空间点生成Delaunay三角网,并剔除边界区域长边所在的三角形,确保样本点面积的准确性;
计算单位面积内样点的分布密度——λ。
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