[发明专利]一种接触窗的形成方法有效
| 申请号： | 201810489030.1 | 申请日： | 2018-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN108751123B | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 张光瑞;马琳;陆原 | 申请（专利权）人： | 赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人： | 刘杰 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区经济技术开发区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种接触窗的形成方法，包括：提供衬底，所述衬底上依次设置有欧姆接触层、接触窗层和保护层；在保护层上形成开设有第一腔的光阻层；刻蚀去除第一腔下的保护层材料，在保护层上形成第二腔；采用第一混合气体刻蚀去除第二腔下的接触窗层材料，形成接触窗；其中，第一混合气体包括C |
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| 搜索关键词： | 一种 接触 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种接触窗的形成方法，其特征在于，包括：提供衬底，所述衬底上依次设置有欧姆接触层、接触窗层和保护层；在所述保护层上形成开设有第一腔的光阻层；刻蚀去除所述第一腔下的保护层材料，在所述保护层上形成第二腔；采用第一混合气体刻蚀去除所述第二腔下的接触窗层材料，形成接触窗；其中，所述第一混合气体包括C5F8和CO。
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