[发明专利]3,5-位非芳基取代R-azaBODIPY荧光染料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810479748.2 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN108892969B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 姜新东;方涛;李丛灵;曹旋;孙长亮;肖林久 申请(专利权)人: 沈阳化工大学
主分类号: C09B57/00 分类号: C09B57/00;C09K11/06;C07F5/02
代理公司: 沈阳技联专利代理有限公司 21205 代理人: 张志刚
地址: 110142 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 3,5‑位非芳基取代R‑azaBODIPY荧光染料及其制备方法,涉及荧光染料及其制备方法,从经典传统的3,5‑位芳基取代azaBODIPY发展的新型3,5‑位非芳基取代的染料RazaBODIPY。RazaBODIPY染料为进一步应用于生物学、材料学研究的发展,提供新式染料,丰富染料家族的种类。作为新式的染料,在具备经典传统的azaBODIPY染料的光谱性能等优点之外,最大的特征是荧光量子产率高,抑制π‑π堆积,稳定性好。其通式如式Ⅰ所示,。该R‑azaBODIPY荧光染料是具有3,5‑位非芳基取代结构,是对传统经典azaBODIPY结构的突破,兼有经典传统染料azaBODIPY光谱性能等优点,并且荧光量子产率更高,稳定性更好,亲水性更强。
搜索关键词: 位非芳基 取代 azabodipy 荧光 染料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.3,5‑位非芳基取代R‑azaBODIPY荧光染料,其特征在于,其通式如式Ⅰ所示:在式I中,其中R选自‑t‑Bu,‑CF3等非芳基的基团;芳基Ar选自Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6、Ar7和Ar8 等基团;代表分子结构举例如下所示:
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