[发明专利]一种化学气相沉积装备用基座

摘要

本发明公开了一种化学气相沉积装备用基座，包括反应箱和基座，反应箱内部设有基座，基座内部镶嵌有加热嵌件，基座上端面设有限位框，限位框内底壁通过若干第一固定架分别固接有固定环，每一个固定环上固接有连接绳的一端，连接绳的另一端固接在同一个转动轴上，转动轴水平设置，转动轴的一端固接有电机的输出端，电机通过第二固定架固接在基座下端面上，转动轴的另一端贯穿第三固定架到达第三固定架的另一侧，限位框与基座上端面形成置物槽，置物槽内部放置有待处理物。本发明能够提高制作效率，提高产品品质，很好的解决了现有技术中被处理物的边沿尖锐部分不成膜，在后续工艺中会产生缺陷，导致质量不过关的缺点。

主权项

1.一种化学气相沉积装备用基座，包括反应箱（1），其特征在于：所述反应箱（1）内部形成真空腔室（2），所述真空腔室（2）内顶壁通过扩散器固定装置（4）固定连接有扩散器（3），所述扩散器（3）正下方设有基座（5），所述基座（5）内部镶嵌有加热嵌件（6），所述基座（5）上端面设有限位框（11），所述限位框（11）平行于基座（5）设置，所述限位框（11）的下端面贯穿基座（5）到达基座（5）下方，所述限位框（11）内底壁通过若干第一固定架分别固定连接有固定环（10），每一个所述固定环（10）上固定连接有连接绳（15）的一端，所述连接绳（15）的另一端固定连接在同一个转动轴（14）上，所述转动轴（14）水平设置，所述转动轴（14）的一端固定连接有电机（13）的输出端，所述电机（13）通过第二固定架固定连接在基座（5）下端面上，所述转动轴（14）的另一端贯穿第三固定架到达第三固定架的另一侧，所述限位框（11）与基座（5）上端面形成置物槽（12），所述置物槽（12）内部放置有待处理物（7）。