[发明专利]一种深紫外窄带滤光片制备方法有效

专利信息
申请号: 201810465405.0 申请日: 2018-05-16
公开(公告)号: CN108680981B 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 吴锜;佟瑶;窦琳 申请(专利权)人: 德州尧鼎光电科技有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/30;C23C14/35
代理公司: 青岛高晓专利事务所(普通合伙) 37104 代理人: 白莹;于正河
地址: 253000 山东省德州市经济技术开*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于薄膜光学技术领域,涉及一种深紫外窄带滤光片制备方法,具体工艺过程包括设计膜系公式、制备基底层、制备滤光片层、制备膜层和控制膜层厚度五个步骤,利用F‑P带通滤光膜的设计概念对金属‑介质组合的透射滤光片进行设计,选择串置金属‑介质滤光片来抑制长波区的旁通带,采用全介质滤光片来降低带宽,在双半波F‑P干涉滤光片结构基础上串置以高折射率材料/低折射率材料组成的多层膜结构形成结构简单的F‑P滤光片,实现在特定的深紫外波段的深度截止,通过改变滤光片层的形状,能够降低深紫外窄带滤光片的半带宽;其滤光片结构简单,制作方法简便,原理科学可靠,保证可见光的透过率和深度截止,降低深紫外窄带滤光片的半带宽。
搜索关键词: 一种 深紫 窄带 滤光 制备 方法
【主权项】:
1.一种深紫外窄带滤光片制备方法,其特征在于具体工艺过程包括设计膜系公式、制备基底层、制备滤光片层、制备膜层和控制膜层厚度共五个步骤:(一)设计膜系公式:根据基底层、滤光片层、膜层和保护层的材料折射率、消光系数和设定的带宽值技术要求,设计出膜系公式,采用Essential Macleod或TFCalc对膜系公式进行模拟仿真、优化和物理厚度值得更改;(二)制备基底层:按照设定的尺寸裁剪基底层;(三)制备滤光片层:按照在基底层的上表面沉积1层反射层,再在反射层的上表面镀1层滤光片层间隔层的顺序,总共沉积3层反射层,镀3层滤光片层间隔层,完成滤光片层的制作;在反射层的表面镀滤光片层间隔层的作用是防止反射层氧化;(四)制备膜层:选取折射率较低的为膜层间隔层,折射率较高的为折射层,按照在滤光片层的上表面沉积1层折射层,再在折射层的上表面镀1层膜层间隔层的顺序,总共沉积n层折射层,镀n层膜层间隔层,完成膜层的制作,在膜层的表面镀1层保护层,得到深紫外窄带滤光片;(五)控制膜层厚度:根据实际需要采用电子束蒸发法或离子溅射法,采用晶体监控的方式通过控制膜层的生长时间进而控制深紫外窄带滤光片的厚度,使膜层间隔层成为反射层的增透膜,以提高深紫外窄带滤光片的透射率。
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