[发明专利]基于透射成像的多层结构体图像处理方法及装置在审
申请号: | 201810419793.9 | 申请日: | 2018-05-04 |
公开(公告)号: | CN108648246A | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 刘宝东;袁路路;魏存峰;魏龙 | 申请(专利权)人: | 中国科学院高能物理研究所 |
主分类号: | G06T11/00 | 分类号: | G06T11/00 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
地址: | 100049 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供了一种基于透射成像的多层结构体图像处理方法及装置,属于透射成像技术领域。多层结构体由目标层及剩余结构体组成,该方法包括:分别对所述剩余结构体与所述多层结构体成像,得到剩余透射图像与多层透射图像;对所述剩余结构体与所述多层结构体的成像环境进行成像,得到背底透射图像;根据比尔定律,由所述剩余透射图像、多层透射图像及背底透射图像计算得到目标层图像。本公开可以从多层结构体的透射图像中提取目标层图像,且处理过程简单,运算量较低。 | ||
搜索关键词: | 透射图像 多层结构体 剩余结构 透射成像 目标层 图像处理 多层 成像 图像 成像环境 运算量 | ||
【主权项】:
1.一种基于透射成像的多层结构体图像处理方法,其特征在于,多层结构体由目标层及剩余结构体组成,所述方法包括:分别对所述剩余结构体与所述多层结构体成像,得到剩余透射图像与多层透射图像;对所述剩余结构体与所述多层结构体的成像环境进行成像,得到背底透射图像;根据比尔定律,由所述剩余透射图像、多层透射图像及背底透射图像计算得到目标层图像。
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